基于連續(xù)可見激光直寫研制突破衍射極限納米孔道的實(shí)驗(yàn)研究.pdf

1、本論文主要開展了“遠(yuǎn)場光學(xué)超分辨顯微成像綜合分析系統(tǒng)”關(guān)鍵技術(shù)的攻關(guān)，進(jìn)行了連續(xù)激光直寫簡單微納復(fù)合結(jié)構(gòu)的制備工藝的研究?；谶B續(xù)激光直寫技術(shù)制備突破衍射極限限制的納米孔道的核心思想是利用具有中心暗點(diǎn)的匯聚光斑引發(fā)聚合物超低單光子吸收，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了尺寸小于衍射極限的納米孔道的制備。我們利用自主搭建的532nm連續(xù)激光直寫系統(tǒng)成功制備出了最小直徑可達(dá)1/10入射光波長的納米孔道及其陣列結(jié)構(gòu)。
　　論文首先闡述了“遠(yuǎn)場光學(xué)超分辨顯微成像

2、綜合分析系統(tǒng)”中圓環(huán)光束的調(diào)制與兩束激光的同軸耦合等關(guān)鍵技術(shù);詳細(xì)介紹了系統(tǒng)其各個(gè)功能模塊的構(gòu)建、集成。其次，討論了SU-8光刻膠對不同激光輻射的吸收特性及機(jī)理，詳細(xì)描述了SU-8光刻膠樣品的制備工藝及流程，模擬計(jì)算了聚焦光斑的空間光強(qiáng)分布，并闡述了利用連續(xù)激光研制突破衍射極限限制的納米孔道結(jié)構(gòu)的原理。最后，利用SEM表征了納米孔道的形貌與尺寸，總結(jié)了曝光時(shí)間、功率以及顯影時(shí)間等幾個(gè)重要因素對納米孔道尺寸和質(zhì)量的影響。分析討論了影響納米