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1、目前基于PLC技術(shù)的大規(guī)模密集光交換器件正處在強(qiáng)烈的需求中,而氧化硅波導(dǎo)技術(shù)又是目前最成熟最有利于批量生產(chǎn)的 PLC技術(shù),所以帶來(lái)最低的產(chǎn)品成本。據(jù)文獻(xiàn)統(tǒng)計(jì),其芯片上光學(xué)傳輸損耗及與光纖耦合損耗都最小,是科研與工程技術(shù)人員最看好的技術(shù)平臺(tái)。
本文系統(tǒng)分析了氧化硅波導(dǎo)PLC技術(shù)產(chǎn)品的優(yōu)越性與發(fā)展?fàn)顟B(tài),找出在這一平臺(tái)上實(shí)現(xiàn)大規(guī)模光網(wǎng)絡(luò)器件所面臨的固有缺陷及必須解決的關(guān)鍵問(wèn)題,有力地證明了工作的必要性與意義。結(jié)合了在硅基波導(dǎo)平臺(tái)上對(duì)
2、薄波導(dǎo)刻槽的成功經(jīng)驗(yàn)、低折射率波導(dǎo)中全反射中較大的古斯-漢欣位移和氧化硅波導(dǎo)刻蝕加工的工藝特點(diǎn),在氧化硅厚波導(dǎo)上刻蝕了21微米深槽以實(shí)現(xiàn)對(duì)導(dǎo)模的全反射。為方便實(shí)驗(yàn)測(cè)試,器件設(shè)計(jì)成了一對(duì)具有1輸入3輸出的波導(dǎo)轉(zhuǎn)角鏡結(jié)構(gòu),反射面大于波導(dǎo)界面,實(shí)驗(yàn)測(cè)試結(jié)果顯示出了3個(gè)輸出光斑,與設(shè)計(jì)目標(biāo)基本一致。3個(gè)反射光斑的總光損耗約為21dB,所以每個(gè)反射鏡光損耗為11dB。這一實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象與結(jié)果為進(jìn)一步優(yōu)化器件結(jié)構(gòu)提高反射效率奠定基礎(chǔ),也為實(shí)現(xiàn)大規(guī)模PLC
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