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1、在活性屏離子滲氮(ASPN)過(guò)程中,如果偏壓小于工件產(chǎn)生自濺射的偏壓閾值,工件表面滲氮層不均勻,甚至滲不上氮,所以濺射和偏壓對(duì)于活性屏離子滲氮技術(shù)來(lái)說(shuō)是非常重要的。
本文用銅片收集了活性屏離子滲氮中不同時(shí)間的濺射粒子,并采用先進(jìn)的測(cè)試儀器和分析方法,如使用場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(SEM)對(duì)其進(jìn)行了顯微分析,觀察了濺射粒子的形貌,研究了濺射粒子的生長(zhǎng)過(guò)程的行為;同時(shí)還使用金相顯微鏡(OM)和顯微硬度計(jì)分析了試樣的滲氮層的金相組織和
2、顯微硬度,研究了活性屏離子滲氮中濺射粒子量對(duì)滲氮效果的影響。試驗(yàn)結(jié)果表明,濺射粒子經(jīng)過(guò)擴(kuò)散遷移后沉積凝結(jié)在基體表面上,生長(zhǎng)成為納米粒子簇,其生長(zhǎng)模式為層加上島狀(Stranski-Krastanov)生長(zhǎng)模式。在不加偏壓的條件下,濺射粒子量隨銅片到活性屏距離的增大而減少,滲氮效果隨試樣到活性屏距離的增加而變差,所以濺射粒子量對(duì)滲氮效果存在正相關(guān)的影響。
在活性屏離子滲氮中,偏壓對(duì)于均勻滲氮起著關(guān)鍵作用,偏壓的電壓和電流是兩個(gè)重
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