版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、學(xué)位論文獨(dú)創(chuàng)性聲明學(xué)位論文獨(dú)創(chuàng)性聲明本人聲明所呈交的學(xué)位論文是本人在導(dǎo)師指導(dǎo)下進(jìn)行的研究工作及取得的研究成果。據(jù)我所知,除了文中特別加以標(biāo)注和致謝的地方外,論文中不包含其他人已經(jīng)發(fā)表或撰寫過的研究成果,也不包含為獲得直昌太堂或其他教育機(jī)構(gòu)的學(xué)位或證書而使用過的材料。與我一同工作的同志對本研究所做的任何貢獻(xiàn)均已在論文中作了明確的說明并表示謝意。學(xué)位論文作者簽名(手寫):毒#志慧簽字日期:2012年歲月27日學(xué)位論文版權(quán)使用授權(quán)書本學(xué)位論文
2、作者完全了解南昌大學(xué)有關(guān)保留、使用學(xué)位論文的規(guī)定,有權(quán)保留并向國家有關(guān)部門或機(jī)構(gòu)送交論文的復(fù)印件和磁盤,允許論文被查閱和借閱。本人授權(quán)南昌大學(xué)可以將學(xué)位論文的全部或部分內(nèi)容編入有關(guān)數(shù)據(jù)庫進(jìn)行檢索,可以采用影印、縮印或掃描等復(fù)制手段保存、匯編本學(xué)位論文。同時授權(quán)中國科學(xué)技術(shù)信息研究所和中國學(xué)術(shù)期刊(光盤版)電子雜志社將本學(xué)位論文收錄到《中國學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫》和《中國優(yōu)秀博碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫》中全文發(fā)表,并通過網(wǎng)絡(luò)向社會公眾提供信息服
3、務(wù)。(保密的學(xué)位論文在解密后適用本授權(quán)書)學(xué)位論文作者簽名(手寫):薜志、冀,簽字日期:汐f2年籮月27日翩手寫靜嚦簽字瞧J彬/ym廠月夕日摘要10111111111111q11111lllllllllIIIIIIIIIIIIIIlUlY2140955摘要納米晶太陽電池以其制備簡單、成本低、發(fā)展空間廣等優(yōu)勢得到了廣泛的關(guān)注。太陽電池的光陽極主要材料有ZnO和Ti02,而pCuSCN與兩者的能帶匹配良好,有著較高的光透過率、較好的穩(wěn)定性和
4、良好的半導(dǎo)體性能方便空穴的傳輸?shù)葍?yōu)點(diǎn),是優(yōu)良的太陽電池P型窗口材料,成為近年來的研究熱點(diǎn)。本文主要綜述了太陽能電池的發(fā)展現(xiàn)狀,并以水為溶劑,用不同的絡(luò)合劑掩蔽Cu2,制備了穩(wěn)定的電沉積液,采用電化學(xué)沉積法在ITO導(dǎo)電玻璃上制備出了化學(xué)性能穩(wěn)定、形貌良好、高純度、透光性良好的CuSCN薄膜,對沉積液的線性伏安曲線掃描表明,適合的沉積電壓為200~600mV。采用XRD、FEESEM、EDS、UV_VIS等表征了材料的各參數(shù),結(jié)果顯示:薄膜
5、為P型半導(dǎo)體;XRD圖譜基本上無雜峰,純度很高,晶粒生長的取向十分明顯;形貌為完美的三角錐形,晶粒的生長服從島狀生長模式;對薄膜進(jìn)行光學(xué)性能分析表明,薄膜在300~400nlTl處有很強(qiáng)的吸收,計算表明,材料的禁帶寬度為352eV。通過分析恒定電壓下,電流一時間曲線,分析了薄膜的形成機(jī)理。討論了不同的絡(luò)合物對實(shí)驗結(jié)果的影響,最終確定乙醇胺的絡(luò)合效果最好。研究了不同化學(xué)計量比、不同的沉積時間及沉積電壓對薄膜的形貌、粒徑等的影響,最后得出最
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- p-CuSCN薄膜的電沉積法制備與性能研究.pdf
- 寬帶p-CuSCN薄膜弱堿條件下的電沉積.pdf
- 寬帶p型CuSCN薄膜的電沉積、結(jié)構(gòu)與性能的研究.pdf
- CuSCN和Cu2O納米結(jié)構(gòu)薄膜的制備及性能研究.pdf
- P型ZnO薄膜及其p-n結(jié)的制備與性能的研究.pdf
- Co-Pt-W(P)磁性薄膜的制備及其性能研究.pdf
- ZnO薄膜的制備及其性能研究.pdf
- FED發(fā)光薄膜的制備及其性能研究.pdf
- ZnO:In薄膜的制備及其光電性能研究.pdf
- p型ZnO薄膜的制備及其特性的研究.pdf
- 鈷鐵氧體薄膜的制備及其性能的研究.pdf
- In-N共摻制備p型ZnO與ZnMgO薄膜及其性能的研究.pdf
- P型ZnO薄膜的優(yōu)化制備及其應(yīng)用.pdf
- CuSCN-CuI無機(jī)復(fù)合空穴傳輸層的制備與性能研究.pdf
- SiC多層薄膜的制備及其性能研究.pdf
- MFC的制備及其薄膜包裝性能研究.pdf
- GZO薄膜的制備及其光電性能研究.pdf
- 濃差薄膜電池的制備及其性能研究.pdf
- Ti-O薄膜的制備及其性能研究.pdf
- PZI薄膜的MOD工藝制備及其性能的研究.pdf
評論
0/150
提交評論