小閃耀角凸面閃耀光柵的研究與制備.pdf

1、本文圍繞小閃耀角凸面閃耀光柵的制作方法,對離子束束散角和涂層修整槽形展開了理論和實(shí)驗(yàn)研究,主要包含以下幾方面的內(nèi)容:
　　首先介紹了凸面閃耀光柵的意義和國內(nèi)外凸面光柵的研究進(jìn)展,綜合敘述了離子束刻蝕技術(shù)和Kaufman離子源系統(tǒng)的工作原理。深入研究了光刻膠、K9玻璃和石英三種光學(xué)材料的刻蝕特性,以氬氣為工作氣體,得到了三種材料刻蝕速率與入射角度的擬合方程,為離子束束散角的研究提供了基礎(chǔ)。
　　詳細(xì)介紹了離子束束散角的計(jì)算以及

2、束散角對刻蝕閃耀角的影響。提出了閃耀光柵閃耀角達(dá)到4°以后很難進(jìn)一步減小可能是受離子束束散角影響的設(shè)想,并進(jìn)行了理論分析和實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證。通過遮擋刻蝕改良離子源準(zhǔn)直性,在平面基底和凸面基底上制得了閃耀角2.8°和3.4°的閃耀光柵,在原有工藝的基礎(chǔ)上,將閃耀角降低。
　　通過對已有閃耀角4°左右的閃耀光柵進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂布和提拉涂布光刻膠,進(jìn)一步降低閃耀角。驗(yàn)證了不同旋涂、提拉速度和光刻膠溶劑濃度對最終實(shí)驗(yàn)結(jié)果的影響。得到了閃耀角減小量與涂層