多孔硅發(fā)光穩(wěn)定性的研究.pdf

1、多孔硅室溫下光致發(fā)光效應(yīng)自被報(bào)道以來就預(yù)示著要在硅基光電子集成上得到很好的應(yīng)用,而多孔硅發(fā)光不穩(wěn)定性已經(jīng)成為多孔硅研究特別是應(yīng)用研究的一個主要障礙。
　　 陰極還原處理和酸處理是本文采用的對多孔硅進(jìn)行后處理的方法,通過比較處理前后的光致發(fā)光光譜,探討它們對發(fā)光效率及穩(wěn)定性的影響。實(shí)驗(yàn)采用陽極腐蝕法來制各有效發(fā)光的多孔硅,并獲得較好的制備工藝參數(shù)。再設(shè)置實(shí)驗(yàn)分別將陰極還原、酸處理運(yùn)用到新鮮制備的多孔硅上,獲得相對較好的處理參數(shù)。最

2、后采用正交試驗(yàn)法來綜合比較陰極還原、酸處理兩種處理方式,通過測試它們的PL譜來探討不同后處理對多孔硅發(fā)光的影響。
　　 通過比較發(fā)現(xiàn),酸處理和陰極還原處理都可以提高多孔硅的發(fā)光效率,兩種處理結(jié)合使用的效果與順序有關(guān),先陰極還原處理再酸處理的樣品發(fā)光效率較高,而相反的處理順序則使發(fā)光效率大大降低。對于發(fā)光穩(wěn)定性的研究結(jié)果顯示,在空氣中自然存放時陰極還原處理、先陰極還原再酸處理的方式能提高多孔硅的發(fā)光穩(wěn)定性:在多孔硅表面不同位置測試