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文檔簡介
1、隨著集成電路特征尺寸進(jìn)入深亞微米階段,超大規(guī)模集成電路(VLSI)中各種互聯(lián)效應(yīng)的影響已經(jīng)變得越來重要?;ヂ?lián)線延時(shí)(Interconnect delay)、串?dāng)_效應(yīng)(Crosstalk Effect)、電壓降效應(yīng)(IR-Drop)、電子遷移效應(yīng)(EM Effect)和天線效應(yīng)(Process Antenna Effect)等問題已經(jīng)成為了物理設(shè)計(jì)的瓶頸,制約著集成電路的發(fā)展。
本文針對(duì)上述5種互聯(lián)效應(yīng)的起因、危害和解決方法
2、進(jìn)行了深入的研究,并在互聯(lián)線延時(shí)和串?dāng)_方面提出了自己的修復(fù)和預(yù)防措施。這些修復(fù)和預(yù)防措施成功地應(yīng)用到Y(jié)AK SOC芯片的物理設(shè)計(jì)中,并保證了芯片時(shí)序驅(qū)動(dòng)下的持續(xù)收斂和完備的可制造性。
本文提出了深亞微米條件下YAK SOC芯片的邏輯綜合、物理實(shí)現(xiàn)和驗(yàn)證的流程。對(duì)標(biāo)準(zhǔn)單元布局、IO布局、時(shí)鐘樹綜合、布線等重要的步驟給出了詳細(xì)的分析,最終成功完成了YAK SOC芯片的物理設(shè)計(jì)。設(shè)計(jì)得到的GDSⅡ版圖文件,經(jīng)過驗(yàn)證,滿足時(shí)序要求
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