DMMP分子印跡膜的制備與性能研究.pdf

1、分子印跡技術(shù)是近年來發(fā)展起來的一種制備具有特異性識別位點(diǎn)聚合物的技術(shù)。聚合物穩(wěn)定性好，能夠耐受高溫、高壓、酸堿、有機(jī)溶劑等，具有構(gòu)效預(yù)定性、特異識別性和廣泛實(shí)用性三大特點(diǎn)，因而在化學(xué)催化、材料科學(xué)、色譜分離、仿生傳感等方面得到廣泛的應(yīng)用。卟啉類化合物因?yàn)楣饷粜院?、性能穩(wěn)定、易于修飾，采用紫外-可見、紅外、熒光、磷光、拉曼等光譜技術(shù)和電化學(xué)方法都可以檢測到它的微小變化等優(yōu)點(diǎn)成為理想的傳感材料。用分子印跡技術(shù)制備的卟啉傳感膜檢測有機(jī)磷農(nóng)藥D

2、MMP具有靈敏度高，響應(yīng)快等特點(diǎn)。這方面的研究工作為快速檢測農(nóng)藥殘留提供了一條新途徑。
　　 本論文主要圍繞金屬卟啉和DMMP之間的配位作用以及DMMP分子印跡膜制備和性能展開研究的，主要內(nèi)容如下：
　　 采用紫外-可見光譜、熒光光譜等方法研究了金屬卟啉與DMMP客體的相互作用。研究表明DMMP分別與鋅四苯基卟啉(ZnTPP)和鈷四苯基卟啉(CoTPP)作用，能通過σ鍵形成1∶1的配合物。由于DMMP的電荷通過Zn-O、

3、Co-O鍵分別流向ZnTPP和CoTPP，分擔(dān)了卟啉環(huán)的部分正電荷，使得配合物的π-π*躍遷能量增大，導(dǎo)致吸收強(qiáng)度降低并且譜帶發(fā)生紅移。采用光譜滴定法，測定了配合物的結(jié)合常數(shù)，并對配位過程的熱力學(xué)參數(shù)進(jìn)行了推算，表明配位過程是一個熵控制的過程。
　　 以甲基丙烯酸(MAA)為功能單體，乙二醇二甲基丙烯酸酯(EGDMA)為交聯(lián)劑，AIBN為引發(fā)劑，DMMP為模板分子，并結(jié)合卟啉ZnTPP，制備了DMMP的分子印跡膜。在薄膜制備中，

4、反應(yīng)條件如溫度、功能單體、交聯(lián)劑、溶劑用量對薄膜均勻性有較大的影響。當(dāng)溫度為15～20℃時(shí)，MAA∶CHCl3∶EGDMA(體積比)為1∶1∶2時(shí)，成膜比較均勻。在卟啉傳感膜的制備中，正交實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，洗脫時(shí)間和分子印跡反應(yīng)液用量對薄膜的敏感性影響較大，洗脫時(shí)間為150min，分子印跡反應(yīng)液用量為20μL時(shí)制備的傳感膜敏感性較好，對體積分?jǐn)?shù)為1×10-7的DMMP在作用前后吸光度變化2％以上。對薄膜進(jìn)行表征，分子印跡薄膜均勻地沉積，具有