ZnS熒光薄膜的脈沖激光沉積及其特性研究.pdf

1、本論文從優(yōu)化場發(fā)射平板顯示陽極熒光層的角度出發(fā)，采用YAG固體激光器(1064nm)和XeCl(308nm)準(zhǔn)分子激光器，利用射頻輔助脈沖激光沉積技術(shù)，通過改變脈沖激光能量密度、射頻輔助及環(huán)境氣壓、沉積溫度、基體-靶距、激光重復(fù)頻率等參量，并采取對熒光薄膜進(jìn)行退火處理等手段，制備出了具有較高發(fā)光性能的ZnS熒光薄膜。并且具體分析了上述制備工藝條件對ZnS薄膜特性的影響。通過XRD、SEM、AFM對制備樣品的結(jié)構(gòu)、形貌特性進(jìn)行測試，利用熒

2、光光譜儀、亮度計對樣品的光致發(fā)光和陰極射線發(fā)光特性進(jìn)行了分析。研究了ZnS薄膜的結(jié)晶狀況、成分、膜厚等因素對其發(fā)光性能的影響。得出結(jié)論為：在低脈沖能量下，使用Ar氣等離子體羽輝射頻輔助、沉積溫度200℃、選用基體-靶距5em、激光重復(fù)頻率為3Hz并進(jìn)行退火處理的薄膜樣品具有較高的結(jié)晶度，以及較好的發(fā)光性能。　　在優(yōu)化的沉積條件中制備了發(fā)光較好的綠色ZnS熒光薄膜，同時又嘗試采用了ZnO/ZnS雙層薄膜來提高發(fā)光性能。結(jié)果表明制備的雙層