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文檔簡(jiǎn)介
1、目的:本實(shí)驗(yàn)在制作常規(guī)下半口義齒、球帽附著式種植覆蓋義齒、磁性附著式種植覆蓋義齒及桿卡附著式種植覆蓋義齒的基礎(chǔ)上,應(yīng)用三維光彈性應(yīng)力分析方法,分析正中牙合、側(cè)向牙合、前伸牙合三種應(yīng)力加載下義齒支持組織的應(yīng)力分布情況,為附著體的臨床選用提供實(shí)驗(yàn)依據(jù)。
方法:本實(shí)驗(yàn)選取標(biāo)準(zhǔn)下頜無(wú)牙頜模型,在雙側(cè)尖牙區(qū)植入兩枚種植體,參照此模型制作環(huán)氧樹(shù)脂光彈模型,表面覆蓋厚2mm的均質(zhì)硅橡膠牙槽粘膜模擬層,制作全口義齒,分別連接球帽、磁性、桿
2、卡附著體制成各型種植覆蓋義齒。將模型與義齒固定于加載裝置,分別在正中牙合、側(cè)向牙合和前伸牙合狀態(tài)下進(jìn)行上頜體中央1㎏砝碼垂直加載,應(yīng)力凍結(jié)后切取要分析牙位的模型切片,觀測(cè)應(yīng)力條紋圖樣,以單位厚度的條紋級(jí)數(shù)值反映應(yīng)力大小。
結(jié)果:三種牙合位下,常規(guī)下半口義齒支持組織的后牙區(qū)應(yīng)力值較大,應(yīng)力最大值位于牙槽嵴頰舌側(cè);覆蓋義齒的種植體周?chē)鷳?yīng)力最大,余留牙槽嵴后牙區(qū)應(yīng)力較大。種植覆蓋義齒的種植體頸部和尖周骨界面應(yīng)力集中,尖周大于頸部
3、。球帽和磁性附著體的側(cè)向應(yīng)力較小,其中磁性附著體的側(cè)向應(yīng)力更小。桿卡附著式種植覆蓋義齒的種植體骨界面和余留牙槽嵴內(nèi)的應(yīng)力值均較大。
結(jié)論:(1)常規(guī)下半口義齒支持組織的應(yīng)力最大值不是位于牙槽嵴頂,而是位于牙槽嵴頰舌側(cè)。(2)下半口義齒后牙區(qū)為承受牙合力主要區(qū)域,臨床制作義齒時(shí)應(yīng)重視該區(qū)基托的擴(kuò)展。(3)種植覆蓋義齒的種植體尖周骨界面為應(yīng)力最大處。(4)球帽和磁性附著體有一定側(cè)向應(yīng)力緩沖作用,有利于種植體骨界面的健康。(5)
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