2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩62頁未讀 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

1、Ba1-xSrxTiO3(簡稱BST)是一種鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的鐵電材料,具有介電常數(shù)適中、漏電流密度小、熱釋電性能優(yōu)良以及居里溫度可調(diào)等特點,是制作非制冷紅外焦平面陣列(UFPA)的理想材料之一。為了滿足單片式UFPA器件研制的需要,本文對BST組分梯度薄膜的制備、界面特性及其電學性能進行了研究。主要研究內(nèi)容及結(jié)果如下:
   ⑴進行了BST陶瓷靶材的燒結(jié)工藝研究,在優(yōu)化燒結(jié)工藝下制得結(jié)構(gòu)致密,結(jié)晶程度良好的BT、Ba0.9Sr0.1

2、0TiO3、Ba0.80Sr0.20TiO3和Ba0.70Sr0.30TiO3陶瓷靶材。然后研究了磁控濺射的工藝參數(shù)對Pt電極上沉積的下梯度組分BST薄膜界面特性、電學性能的影響。實驗結(jié)果表明:襯底溫度、沉積氣壓和氧氬比對薄膜的影響較大。在600℃沉積的下梯度組分BST薄膜介電常數(shù)較大,介電損耗和漏電流密度較小;在3.0Pa獲得了最高的沉積速率和電學性能良好的BST組分梯度薄膜。綜合各種工藝參數(shù)得到沉積下梯度組分BST薄膜的優(yōu)化工藝參數(shù)

3、:襯底溫度600℃,02/Ar=1:2,沉積氣壓3.0Pa。在優(yōu)化工藝參數(shù)下在Pt電極上沉積的下梯度組分BST薄膜晶化程度良好、結(jié)構(gòu)致密、晶粒生長均勻。在100kHz時薄膜的介電常數(shù)ε為379.5,介電損耗為0.0186,介電可調(diào)率為23.8%,在375kV/cm外電場下薄膜的剩余極化2P,為2.84μC/cm2,矯頑場為21.8kV/cm,75 kV/cm外電場下薄膜的漏電流為1.18×10-6 A/cm2。
   ⑵采用界面

4、調(diào)控的方法在薄膜與襯底之間使有不同電極材料和引入YSZ緩沖層來改善界面結(jié)構(gòu)、提高薄膜的晶化程度和電學性能。實驗結(jié)果表明:在Ru和RuO2電極上制備的下梯度組分BST薄膜,其介電損耗明顯高于在Pt電極上制備的薄膜:RuO2/Pt復(fù)合電極上制備的下梯度組分BST薄膜在100kHz時ε為324.8,介電損耗為0.0199;在400kV/cm時薄膜的2Pr為4.26μC/cm2,矯頑場Ec為36.0kV/cm;這些電學性能接近與Pt電極上制備的

5、下梯度組分BST薄膜,適合作為薄膜的底電極材料。YSZ緩沖層的厚度對下梯度組分BST薄膜電學性能影響比較明顯,當YSZ的厚度為7nm時,YSZ薄膜的晶化程度較好,能夠有效促進下梯度組分BST薄膜的生長;在100kHz時沉積在YSZ(7nm)上的BST組分梯度薄膜的介電常數(shù)達到351.6,介電損耗在0.0180以下;但鐵電性能不是很好,剩余極化2Pr為0.54μC/cm2,矯頑場強Ec為15.3kV/cm。
   ⑶在優(yōu)化工藝條件

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論