消偏振膜的超薄層設(shè)計研究.pdf

1、許多光學(xué)系統(tǒng)為了實(shí)現(xiàn)像的旋轉(zhuǎn)、不同光路的疊加以及激光腔的折疊等，其光軸都是彎折的。即在光學(xué)系統(tǒng)中會遇到很多傾斜入射的光學(xué)元件。當(dāng)光傾斜入射時，由于兩個偏振狀態(tài)(S偏振和P偏振)的反射率、透射率和相位移動不同，因此在反射光和透射光中會產(chǎn)生偏振效應(yīng)。然而在許多情況下，這種偏振效應(yīng)是必須消除或減少的。消偏振膜的設(shè)計一般采用四分之一膜堆優(yōu)化方法，其設(shè)計結(jié)果都是膜層厚度偏厚，這樣薄膜鍍制時間會偏長，同時也會給工藝上帶來困難。本論文在總結(jié)前人成果的

2、基礎(chǔ)上在膜系設(shè)計上提出了一種新的設(shè)計思想(超薄層設(shè)計思想)對膜系進(jìn)行改進(jìn)。使用超薄層設(shè)計方法設(shè)計的消偏振膜系在指標(biāo)上完全能滿足設(shè)計要求。此外使用超薄層設(shè)計的膜系與使用傳統(tǒng)設(shè)計方法設(shè)計的膜系相比，具有膜層厚度薄和實(shí)際鍍制時間短的優(yōu)點(diǎn)。本論文按所設(shè)計的膜系進(jìn)行了鍍制。鍍制結(jié)果表明，實(shí)際鍍制結(jié)果與理論計算結(jié)果基本吻合，產(chǎn)生的誤差在允許誤差(±5﹪)的范圍內(nèi)，完全滿足指標(biāo)要求。這說明這種新的設(shè)計方法是可行的。此外從實(shí)際的鍍制過程來看它具有可行性