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1、重慶大學碩士學位論文電化學刻蝕半導體InP納米多孔陣列及機理研究姓名:申慧娟申請學位級別:碩士專業(yè):凝聚態(tài)物理指導教師:胡陳果廖克俊20060401重慶大學碩士學位論文英文摘要IIABSTRACTElectrochemicaletchingwhichhasthefeaturesoflowtemperaturelowdamagesimplicitylowcostsintheetchingprocesscanbeusedtoprepared
2、nanomaterials.Withthismethodpoussiliconhadbeenpreparedintheearly1990s.Motivatedbythestudyofpoussiliconlotsofresearchershavebeenattractedbypouscompoundsemiconductsduetotheirhighcarriermobilitysomespecificopticalproperties
3、.HowevertheetchingprocessofⅢⅤcompoundmaterialsismecomplicatedthanthatofSithemechanismoftheetchinghasnotbeenunderstoodyet.InthispaperwechoosetheInPasthematerialtostudyitselectrochemicaletchingprocessfitspriitiescomparedto
4、GaAs.Ithasbeenfoundthatpousstructureisvariedwithetchingconditionsindicatingapossibilityofregularpesarrayiftheoptimalconditioncouldbeused.Wealsofoundthatmostmacropeslayeroftheetchedsamplesusuallycoveredbymicropeslayerwith
5、minutediameterswhosepesizecanbefarmedifferentfrommacropeslayers.Comparingthepesfmationonscratchedsurfacewithintactsurfaceofsampleswefoundmacropesimagedpritothefmeroneshowingthatthepreprocessingisimptanttodefinethepesinit
6、ialposition.Thereasonisgiveninthepaper.Itisalsofoundsometimesbranchsappearinmanysamplesthesmoothdegreeofpewallincreaseswiththepesdeepening,demonstratedthepossibilitiesofpesarrayswithsmoothwallifoptimalconditionisoffered.
7、Thisisanalyzedinthepaper.Furthermetheetchingofsampleswithdifferentdopedconcentrationsarestudied.ItisfoundthatpesdepthdiameteronnInPwithheavilydopedconcentrationislargerthanmoderatelydopedsamples.Finallywediscussedthecurr
8、entoscillationinetchingprocess.Atconstantvoltageconditiontheperiodicalcurrentoscillationisobservedintheexperimentonlyappearsatthevoltagelargerthan1.3V.Theamplitudeincreaseswiththeimposedvoltage.Duringtheoscillationinlarg
9、eamplitudetherearemanyromsmallamplitudeoscillations.ComparingthecrosssectionSEMofpeswiththeItcurvelargeoscillationunexpectedlycoincidentwithpouslayerweanalyzedthelargesmalloscillationbasedonV.LehmannJensmodelsrespectivel
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