中性溶液中鐵電化學腐蝕規(guī)律的掃描電化學顯微鏡研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、掃描電化學顯微技術(SECM)是一種具有高空間分辨度的現(xiàn)場電化學新技術。用掃描電化學顯微鏡研究腐蝕電化學體系,可獲得用一般電化學方法及其他技術難以得到的重要信息??捎肧ECM在電化學現(xiàn)場測量腐蝕電極表面空間形貌、電化學不均一性、化學物種等,研究腐蝕電極的動態(tài)過程;掃描電化學顯微鏡還用來研究金屬表面鈍化膜的局部破壞、消長、局部腐蝕早期過程機理,在原位從微米或納米空間分辨率上對腐蝕發(fā)生、發(fā)展機理進行深入的研究,使得腐蝕機理研究從整體平均的水

2、平深入到微米或納米空間分辨的水平。 本論文用掃描電化學顯微鏡,以鉑為探針工作電極,高純鐵為基底工作電極,在中性溶液中研究鐵腐蝕產物的濃度分布。在鐵電極表面的做面掃描、線掃描、逼近曲線和循環(huán)伏安,其中面掃描、線掃描、逼近曲線研究溶液中的腐蝕產物的濃度分布。 本論文的主要工作如下: 1.不同條件下腐蝕產物的濃度分布 通過做面掃描、線掃描知道,當探針電位不同,基底開路時探針更易氧化溶液中鐵溶

3、解的Fe<'2+>離子。研究表明,在同樣的條件下做面掃描實驗時溶液濃度越高面掃描峰電流越大。 2.循環(huán)伏安結果分析 以鐵為基底,分別在含和不含碘化鉀的中性溶液中做循環(huán)伏安,實驗 結果表明,在畬有碘化鉀的中性溶液中的碘離子在探針上發(fā)生氧化反應。 3.不同基底上的面掃描 比較不同基底上的實驗結果,可知在相同的溶液中,以鐵為基底的面 掃描峰為凸峰,而以金為基底的面掃描無峰。說明鐵

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