ITO薄膜光學(xué)性能的研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩53頁未讀 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、透明導(dǎo)電氧化物(TransparentConductingFilms簡(jiǎn)稱TCO)薄膜(尤其是IndiumTinOxide簡(jiǎn)稱ITO薄膜),既有高電導(dǎo)率又有高可見光透射率,因此被廣泛應(yīng)用于太陽能電池、平板顯示器、氣敏元件、熱屏蔽、電磁屏蔽等領(lǐng)域?,F(xiàn)階段有多種工藝可用于制備ITO薄膜,比如:噴霧熱解法、溶膠—凝膠法、化學(xué)氣相沉積法、真空蒸發(fā)法、脈沖激光沉積法、磁控濺射法等。磁控濺射法以其優(yōu)良的性能,以大規(guī)模地應(yīng)用在工業(yè)生產(chǎn)中。隨著顯示技術(shù)的

2、不斷發(fā)展,對(duì)可見光透射率的要求也越來越高,這也大大促進(jìn)了人們對(duì)ITO薄膜可見光透射率的研究。其中在保證高電導(dǎo)率的情況下,如何進(jìn)一步的提高ITO薄膜可見光透射率以成為熱門的研究課題。
  本文根據(jù)光學(xué)單層薄膜理論,利用C++程序設(shè)計(jì)語言,編寫出了計(jì)算薄膜透射率的獨(dú)立程序,并將該程序應(yīng)用到單層ITO薄膜透射率的計(jì)算中。并由計(jì)算程序得到:在可見光范圍內(nèi),單層ITO薄膜的平均透射率達(dá)到93%。為了驗(yàn)證理論計(jì)算正確與否,采用直流磁控濺射鍍膜

3、工藝,在浮法玻璃基底上制備ITO透明導(dǎo)電薄膜,對(duì)所得ITO薄膜的物理特性進(jìn)行了研究。濺射所用靶材為高純度陶瓷ITO靶材,在本底真空中,充入氬氣作為工作氣體,保持基底溫度和濺射功率穩(wěn)定。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:ITO薄膜具有In2O3的立方多晶結(jié)構(gòu),主要成分為In,Sn,O,表面較為平整,Eg的值約為3.86eV,可見光區(qū)域的透射率高達(dá)90%。程序計(jì)算的結(jié)果和實(shí)際測(cè)量得到的ITO薄膜透射率比較接近,微小偏差源于制備過程中結(jié)晶度、致密度、缺陷等因素的

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論