薄膜光學常數和厚度的透射光譜法測定研究.pdf

1、隨著薄膜在諸多技術領域中日益廣泛應用，對薄膜技術的要求不斷提高，薄膜技術水平也不斷提升。在實際應用中，準確地掌握寬波段范圍內薄膜材料的光學性能對于設計和制備高質量光學薄膜元件至關重要。由于薄膜的光學性質不同于相應的塊狀材料，且薄膜的光學常數與薄膜的沉積方法、沉積條件以及沉積參數等均有很大關系，因此，如何根據實際工作條件快速而精確地測定薄膜的光學常數一直是薄膜工作者非常關注的課題。在目前眾多的方法中，透射光譜法因其具有測試簡單、操作方便、

2、測試范圍廣及精度高等突出優(yōu)點而備受人們青睞。 本論文主要對透射光譜法測量薄膜光學常數進行了較為系統(tǒng)、詳細的研究，給出了一種用透射光譜法同時確定薄膜光學常數和厚度的方法，并開展了實驗研究，取得了滿意的結果。論文的主要工作包括： 1．給出了確定透明均勻薄膜光學常數和厚度的方法。利用透射光譜法確定薄膜 的光學常數(薄膜厚度和折射率)，對鍍制在CaF2基底上的單層ZnS薄膜以 及鍍制在Al<,2>O<,3>基底上的單層YbF

3、<,3>薄膜的光學常數進行了優(yōu)化計算，給出 了優(yōu)化結果，并作了分析討論。 2．建立了確定吸收薄膜的光學常數和厚度的基本理論。利用透過率包絡線法確 定薄膜的光學常數(薄膜厚度、折射率和消光系數)，對鍍制在ZF<,2>(高折射率玻璃)的單層YbF<,3>薄膜和HfF<,4>薄膜、鍍制在SiO<,2>的單層PbF<,2>薄膜以及 鍍制在Al<,2>O<,3>基底上的單層YbF<,3>薄膜的光學常數進行了優(yōu)化計算，并將理 論計算