面向電沉積薄膜的襯底表面質(zhì)量評價研究.pdf

1、薄膜材料獨特的光學(xué)、力學(xué)、電磁學(xué)特性，使其在工程領(lǐng)域內(nèi)被廣泛應(yīng)用。電沉積法作為一種制備薄膜的常用方法，需要高質(zhì)量的表面作為襯底，且襯底的表面對薄膜質(zhì)量有重要影響。有效的評價襯底表面質(zhì)量，能夠了解各種因素對襯底的重要性，同時可以為襯底的加工提供依據(jù)。因此，對襯底表面質(zhì)量進行科學(xué)地綜合評價，對于襯底的加工具有重要意義。面向電沉積方法制備薄膜對襯底表面的要求，為了科學(xué)地評價襯底的表面質(zhì)量，本文以銅襯底為研究對象，提出了對襯底表面質(zhì)量進行綜合評

2、價，并建立了薄膜襯底表面質(zhì)量評價模型。
　　本研究主要內(nèi)容包括：⑴確定了綜合評價的評價指標(biāo)體系，包括表面粗糙度、平面度、損傷層深度和彎曲度四個評價指標(biāo)。進一步的，根據(jù)前人的研究成果和評價標(biāo)準(zhǔn)的構(gòu)建原則，確定了本文的評價標(biāo)準(zhǔn)。⑵為了更準(zhǔn)確的確定出各個評價指標(biāo)的權(quán)重，同時避免人的主觀因素對權(quán)重確定的影響，提出用熵值法確定指標(biāo)的權(quán)重，并將熵值法和模糊綜合評價法結(jié)合進行綜合評價，得出襯底表面質(zhì)量的級別。⑶以電解銅為加工對象，用不同的拋光方