高純?nèi)谆X中痕量氧雜質(zhì)的NMR定量研究.pdf

1、三甲基鋁是一種高純金屬有機(jī)化合物（簡(jiǎn)稱MO源）。是制造高亮度發(fā)光二級(jí)管（LED）、新一代太陽(yáng)能電池、相變存儲(chǔ)器、半導(dǎo)體激光器、射頻集成電路芯片等的核心原材料之一。在半導(dǎo)體照明、信息通訊、航天等領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用。還在“神州”飛船，“東4”大衛(wèi)星平臺(tái)系列衛(wèi)星等航天器的太陽(yáng)能電池上成功運(yùn)用，徹底打破了國(guó)外在這一重要國(guó)防科技領(lǐng)域?qū)ξ覈?guó)的封鎖。研究表明，三甲基鋁MO源品質(zhì)純度要求非常高，其中的痕量雜質(zhì)對(duì)半導(dǎo)體材料的電學(xué)、光學(xué)性能有著至關(guān)重要的影

2、響，一旦達(dá)不到要求，則會(huì)對(duì)下游外延片生長(zhǎng)帶來(lái)致命的缺陷。因此，MO源三甲基鋁中的痕量雜質(zhì)分析是一個(gè)重要的研究課題。近年來(lái)，隨著LED爆發(fā)式的發(fā)展，MO源需求不斷增加，我國(guó)實(shí)現(xiàn)MO源國(guó)產(chǎn)化對(duì)發(fā)展我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、提高國(guó)防實(shí)力、推動(dòng)我國(guó)光電子及微電子產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重大意義。
　　三甲基鋁中的雜質(zhì)分為無(wú)機(jī)雜質(zhì)和有機(jī)雜質(zhì)，分別采用不同的分析儀器進(jìn)行測(cè)量。電感耦合等離子體院子原子發(fā)射光譜（ICP-OES），給無(wú)機(jī)痕量雜質(zhì)分析提供了快速有效的分析