超高純氨中痕量水檢測(cè)方法的研究.pdf

1、超高純氨是LED行業(yè)、微電子行業(yè)中重要的原料氣體，主要應(yīng)用于金屬有機(jī)化學(xué)淀積法(MOCVD)制造外延芯片或氮化硅薄膜。過量的水分會(huì)嚴(yán)重影響工藝產(chǎn)率和產(chǎn)品質(zhì)量。氨氣中痕量水分析是氣體分析領(lǐng)域的難點(diǎn)之一，目前國(guó)內(nèi)外可以穩(wěn)定、準(zhǔn)確測(cè)量超高純氨氣中痕量水的方法只有光腔衰蕩法、紅外光譜吸收法和熱分解露點(diǎn)法。國(guó)標(biāo)中已將熱分解露點(diǎn)法列為檢測(cè)高純氨氣中痕量水分的方法，但國(guó)內(nèi)目前采用該種測(cè)定方法的單位為零，而且對(duì)熱分解露點(diǎn)法的研究也鮮有報(bào)道。本文主要通過

2、改進(jìn)熱分解露點(diǎn)法可以穩(wěn)定、準(zhǔn)確、快速的測(cè)量超高純氨氣中痕量水分。
　　 本文主要設(shè)計(jì)、制作出氣密性良好的超高純氨進(jìn)樣器、氨分解反應(yīng)槽、熱分解露點(diǎn)裝置。制作了氨分解催化劑d并考察了分解槽溫度、氣體流速對(duì)所選用的四種氨分解催化劑在測(cè)試中的水分基線的影響及分解槽溫度、氣體流量對(duì)氨分解率的影響，篩選出最適合的氨分解催化劑d用以測(cè)量超高純氨中痕量水。
　　 采用熱分解露點(diǎn)裝置分析高純氮?dú)庵泻哿克?、超高純氨氣中痕量水，并用配有氦離子

3、放電檢測(cè)器的氣相色譜檢測(cè)超高純氨中的痕量氧，折算出超高純氨中痕量水。與光腔衰蕩法、紅外吸收光譜法測(cè)試結(jié)果的比對(duì)分析證明熱分解露點(diǎn)法測(cè)試值準(zhǔn)確度較高，成本低，可用以分析超高純氨氣中痕量水分，最低檢測(cè)限約80ppb。
　　 考查了氨分解溫度、氣體流量對(duì)高純氨中痕量水分析的影響，從而確定熱分解露點(diǎn)裝置最佳工作條件?？疾榱俗儔褐脫Q、變流置換對(duì)縮短測(cè)試時(shí)間的影響，采用新的置換方式的測(cè)試時(shí)間是只平速吹掃所用時(shí)間的一半。比對(duì)了不同冷源的精密露