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      上傳時(shí)間:2024-03-10
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    • 簡(jiǎn)介:NIPPTFE化學(xué)復(fù)合鍍工藝與性能研究STUDYONTHEPROCESSANDPERFORMANCEOFNIPPTFEELECTROLESSCOMPOSITEPLATING學(xué)位論文完成日期指導(dǎo)教師簽字答辯委員會(huì)成員簽字青島科技大學(xué)研究生學(xué)位論文NIPPTFE化學(xué)復(fù)合鍍工藝與性能研究摘要為了進(jìn)一步拓展化學(xué)鍍鎳的應(yīng)用范圍,在化學(xué)鍍?nèi)芤褐袚诫s不溶性的PTFE微納米粒子,可得到性能更優(yōu)異的NIPPTFE自潤(rùn)滑復(fù)合鍍層。PTFE微納米粒子具有非常低的摩擦系數(shù)和良好的自潤(rùn)滑性,而含有PTFE微納米粒子的復(fù)合鍍層在受到摩擦?xí)r,PTFE微納米粒子可通過(guò)自身的層狀剝離在鍍層表面鋪展開(kāi)來(lái),經(jīng)過(guò)一段時(shí)間的摩擦后,這種固體潤(rùn)滑劑可在工件表面形成厚度均勻的減摩層,降低鍍層摩擦系數(shù),以減少磨損。本文主要探討了一陽(yáng)離子型表面活性劑、非離子型表面活性劑以及復(fù)合表面活性劑對(duì)NIPPTFE復(fù)合鍍工藝及性能的影響。二PTFE微納米粒子添加量對(duì)NIPPTFE復(fù)合鍍工藝及性能的影響,并對(duì)復(fù)合鍍層中PTFE微納米粒子含量進(jìn)行了計(jì)算。三外加磁場(chǎng)以及所加磁場(chǎng)強(qiáng)度大小對(duì)NIPPTFE復(fù)合鍍工藝及性能的影響。四NIP合金預(yù)鍍層厚度的變化,對(duì)NIP/NIPPTFE復(fù)合鍍層性能的影響。并采用XJZ6A型金相顯微鏡對(duì)復(fù)合鍍層的金相組織進(jìn)行了觀察,測(cè)定了鍍層的厚度;用彎曲試驗(yàn)法測(cè)定了復(fù)合鍍層與基體的結(jié)合強(qiáng)度;用HVSL000型數(shù)顯顯微硬度計(jì)測(cè)定了復(fù)合鍍層的顯微硬度;用貼濾紙法測(cè)定了復(fù)合鍍層的孔隙率;用SEM和EDS對(duì)復(fù)合鍍層的形貌和元素組成進(jìn)行了表征;用SFT2M銷(xiāo)盤(pán)式摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)測(cè)定了復(fù)合鍍層的摩擦系數(shù)同時(shí)利用公式計(jì)算了復(fù)合鍍層中PTFE微納米粒子的含量。結(jié)果表明陽(yáng)離子型表而活性劑聚丙烯酰胺PAM與非離子型表面活性劑OP兩者復(fù)配使用,更有利于PTFE微納米粒子在鍍液中的分散,經(jīng)分析討論,兩種表面活性劑的最佳添加量為5ML/L的PAM和4ML/L的OP。NIP合金鍍層的摩擦系數(shù)“為05左右,鍍液中添加適量的PTFE微納米粒子后,可降低復(fù)合鍍層的摩擦系數(shù)。研究表明,當(dāng)鍍液中PTFE微納米粒子添加量為59/L時(shí),所得NIPPTFE復(fù)合鍍層中PTFE微納米粒子含量較高,復(fù)合鍍層的摩擦系數(shù)“達(dá)到O225,并且復(fù)合鍍層具有合適的硬度和良好的耐蝕性,與基體結(jié)合良好。鍍件周?chē)型饧哟艌?chǎng)時(shí),可提高復(fù)合鍍層的沉積速度和復(fù)合鍍層中的PTFE微納米粒子含量,并可改善復(fù)合鍍層的表面質(zhì)量。另外,當(dāng)鍍件周?chē)饧哟艌?chǎng)強(qiáng)
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      上傳時(shí)間:2024-03-10
      頁(yè)數(shù): 108
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    • 簡(jiǎn)介:高密度鎢合金具有密度高、強(qiáng)度和硬度高、導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性好、熱膨脹系數(shù)小、抗腐蝕和抗氧化性好、機(jī)械加工性和焊接性好等一系列優(yōu)異的物理力學(xué)性能和使用性能,在國(guó)防軍工、航空航天等領(lǐng)域中具有不可替代的作用。而制備高性能鎢基合金材料的核心在于粉末原料的納米化及其合金的特性研究。本論文圍繞這一核心問(wèn)題,對(duì)納米級(jí)WNIFE復(fù)合粉末的制備及其合金特性等方面進(jìn)行了較系統(tǒng)、較深入的研究。本論文引入了微乳液化學(xué)沉淀法在撞擊流裝置中制備納米級(jí)WNIFE復(fù)合前驅(qū)體粉末。著重研究了原料的微乳液體系的不同相的選擇配比,以及撞擊流共沉淀過(guò)程中的條件優(yōu)化,分別以反應(yīng)溫度、反應(yīng)濃度、轉(zhuǎn)子速率以及反應(yīng)終點(diǎn)的PH值作為正交因子,考察其對(duì)沉淀顆粒產(chǎn)率的影響程度。利用冷凍干燥裝置將沉淀粒子進(jìn)行干燥,在箱式馬弗爐中進(jìn)行高溫煅燒,制備納米級(jí)WNIFE復(fù)合前驅(qū)體氧化物粉末。由于在氧化物還原過(guò)程中的物相變化和粉末體的團(tuán)聚程度與溫度和時(shí)間密切相關(guān),在前驅(qū)體氫氣還原過(guò)程中,著重研究了還原溫度和還原時(shí)間對(duì)氫還原過(guò)程中粒徑的影響,選擇了合適的溫度和時(shí)間。還原粉末燒結(jié)成形的過(guò)程研究中,主要研究了粉末壓坯的壓力強(qiáng)度對(duì)壓坯密度的影響,以及燒結(jié)溫度和燒結(jié)時(shí)間對(duì)抗拉強(qiáng)度的影響。
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      上傳時(shí)間:2024-03-09
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    • 簡(jiǎn)介:本文通過(guò)大量實(shí)驗(yàn)研究了甲基磺酸型電鍍錫和化學(xué)鍍錫工藝配方,分析了鍍液組成和工藝條件對(duì)鍍層及鍍液性能的影響,得到了一種新的鍍錫體系,滿(mǎn)足PCB中不同工序的要求,并對(duì)甲基磺酸鍍錫中添加劑的作用機(jī)理進(jìn)行了探討。確定了一種甲基磺酸型電鍍工藝配方,其組成和工藝條件為甲基磺酸亞錫80MLL~100MLL、甲基磺酸96MLL~112MLL、HG11添加劑016GL~024GL、酚酞08MLL~12MLL、穩(wěn)定劑08GL~15GL、分散劑10MLL~14MLL、溫度為15℃~30℃、電流密度10ADM2~30ADM2、機(jī)械攪拌。采用SEM、AFM、金相顯微鏡、電化學(xué)工作站和其他檢測(cè)方法,結(jié)果表明該鍍液分散能力和覆蓋能力好,鍍層厚度能達(dá)到3ΜM以上;形成了晶粒細(xì)致、平滑致密的鍍層,與基體的結(jié)合強(qiáng)度高,能滿(mǎn)足PCB上圖形電鍍的基本要求。并探討了鍍液中甲基磺酸、HG11、酚酞和分散劑對(duì)錫沉積的作用機(jī)理。確定了一種甲基磺酸型化學(xué)鍍工藝配方。首先通過(guò)單因素實(shí)驗(yàn),研究了各因素對(duì)鍍錫層厚度及微觀形貌的影響,闡述了各組成的作用,之后通過(guò)正交試驗(yàn)得到了一個(gè)最優(yōu)工藝配方。該鍍錫液性能穩(wěn)定,鍍層銀白細(xì)致,結(jié)合能力強(qiáng),厚度能達(dá)到08ΜM以上,適合PCB板材焊錫的需要。AFM和SEM結(jié)果說(shuō)明隨著溫度和時(shí)間的增加,鍍錫層的厚度逐漸增加,但是表面晶粒度越來(lái)越大,造成粗糙度隨之增大;另外鍍液中的PH值甲基磺酸含量也對(duì)鍍層厚度和表觀質(zhì)量有影響。通過(guò)極化曲線(xiàn)與SEM相結(jié)合的方式研究了鍍液中添加劑的作用機(jī)理。HG22能夠在抑制亞錫離子在凸點(diǎn)的還原,減小基體附近的金屬離子匱乏區(qū)的厚度,提高了鍍液的分散能力和鍍層表面質(zhì)量,從而得到光亮鍍層。XRD分析結(jié)果說(shuō)明溫度和時(shí)間對(duì)鍍錫層的擇優(yōu)取向沒(méi)有影響,晶面結(jié)構(gòu)都是以SN220和SN211生長(zhǎng)占優(yōu)勢(shì),而次亞磷酸鈉有利于晶面SN101的形成。
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      上傳時(shí)間:2024-03-11
      頁(yè)數(shù): 69
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      ( 4 星級(jí))
    • 簡(jiǎn)介:本文研究了氣體多元共滲與化學(xué)鍍復(fù)合技術(shù)處理工藝采用金相、X射線(xiàn)衍射XRD等分析測(cè)試手段對(duì)復(fù)合處理后的Q235試樣進(jìn)行了顯微組織、結(jié)構(gòu)和微觀形貌特征分析測(cè)定了樣品的顯微硬度化學(xué)鍍層與多元層的界面結(jié)合強(qiáng)度及復(fù)合處理后試樣的韌性同時(shí)測(cè)定了復(fù)合處理試樣的耐蝕性能。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明經(jīng)過(guò)氣體多元共滲加化學(xué)鍍表面復(fù)合處理后試樣的滲鍍層深度約為120ΜM滲鍍層的結(jié)構(gòu)由試樣表面及里為化學(xué)鍍層結(jié)構(gòu)NIP、NI8P3和NI5P4多元共滲層結(jié)構(gòu)FE3N、FE2N、FE3O4、FE2O3和少量的FES、FE2C其硬度是氣體多元共滲處理后表面氧化物層硬度的16~17倍;化學(xué)鍍層與多元層具有較好的結(jié)合強(qiáng)度。根據(jù)中性鹽霧腐蝕實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析經(jīng)過(guò)復(fù)合處理后試樣的耐蝕性能是單純氣體多元共滲的37倍是單純化學(xué)鍍技術(shù)處理的55倍;根據(jù)熱力學(xué)原理探討了復(fù)合處理工藝問(wèn)題;根據(jù)腐蝕電化學(xué)原理探討了復(fù)合處理耐蝕性能比單純氣體多元共滲或化學(xué)鍍技術(shù)好的原因;本文還對(duì)復(fù)合處理工藝成本進(jìn)行了計(jì)算說(shuō)明。
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      上傳時(shí)間:2024-03-10
      頁(yè)數(shù): 57
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    • 簡(jiǎn)介:碳纖維增強(qiáng)樹(shù)脂基復(fù)合材料CFRP憑借其具有輕質(zhì)、耐高溫、抗腐蝕、優(yōu)良的耐疲勞性等特點(diǎn)已在越來(lái)越多的領(lǐng)域替代傳統(tǒng)的金屬材料。但樹(shù)脂基復(fù)合材料存在耐磨性差、易變性和缺乏金屬光澤等缺點(diǎn),在一定程度上限制了其使用范圍。由于化學(xué)鍍層具有良好的耐蝕性、耐磨性、硬度高和鍍層厚度均勻等優(yōu)點(diǎn)。因此本實(shí)驗(yàn)采用化學(xué)鍍鎳的表面處理方法對(duì)碳纖維增強(qiáng)樹(shù)脂基復(fù)合材料進(jìn)行表面金屬化,以增強(qiáng)基體材料表面硬度及提升其耐磨耐腐蝕性能。本論文通過(guò)對(duì)碳纖維增強(qiáng)環(huán)氧樹(shù)脂復(fù)合材料化學(xué)鍍鎳的鍍前預(yù)處理工藝中粗化、敏化、活化工藝的探討和鍍層外觀性能的檢測(cè),確定粗化、敏化、活化工藝的最佳時(shí)間和溫度;通過(guò)單因素試驗(yàn)確定鍍液工作時(shí)的最佳PH值和溫度及鍍液成分含量的大致范圍;接著采用正交試驗(yàn)的方法,研究了碳纖維增強(qiáng)環(huán)氧樹(shù)脂復(fù)合材料化學(xué)鍍NIP合金的最優(yōu)鍍液配方組分,并對(duì)所得最優(yōu)組鍍件采用XRD、SEM和EDS進(jìn)行了測(cè)試分析及耐腐蝕性能測(cè)試;最后研究了化學(xué)鍍NIPSIC復(fù)合鍍層的工藝及性能,確定了SIC微粒的最佳添加量,對(duì)最優(yōu)鍍液配方下所得的NIP合金鍍層和NIPSIC復(fù)合鍍層的耐腐蝕性進(jìn)行對(duì)比分析。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明化學(xué)鍍鎳鍍液最佳配方為硫酸鎳32GL;次亞磷酸鈉30GL;乳酸21MLL;乙酸鈉16GL。最佳鍍液配方所得鍍層硬度為520HV,且為非晶態(tài)結(jié)構(gòu),P元素含量為1188%,是耐腐蝕性能較好的高磷含量鍍層?;瘜W(xué)鍍NIPSIC復(fù)合鍍層的SIC粒子添加量為8GL時(shí)復(fù)合鍍層性能最佳。硬度為680HV,且鍍層屬非晶態(tài)結(jié)構(gòu)。TAFEL極化曲線(xiàn)證明NIP合金鍍層的耐腐蝕性?xún)?yōu)于NIPSIC復(fù)合鍍層的耐腐蝕性。
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      上傳時(shí)間:2024-03-10
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    • 簡(jiǎn)介:難熔金屬鎢及其合金因具有良好的導(dǎo)熱、導(dǎo)電性能膨脹系數(shù)低、高溫強(qiáng)度高、低蒸汽壓和耐磨、耐腐蝕等特性而在冶金、電子、航空和宇航工業(yè)、核工業(yè)以及化學(xué)工業(yè)等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。本課題主要研究化學(xué)氣相沉積工藝對(duì)沉積鎢涂層的組織、結(jié)構(gòu)、表面光潔平整度的影響以及涂層組織結(jié)構(gòu)、厚度及形貌對(duì)導(dǎo)涂層耐磨性的影響。并以此為基礎(chǔ)開(kāi)展用化學(xué)氣相沉積法在紫銅及銅合金導(dǎo)電嘴內(nèi)壁沉積鎢涂層的應(yīng)用研究通過(guò)對(duì)化學(xué)氣相沉積工藝參數(shù)的優(yōu)化獲得表面光潔平整、厚度均一致密度高的鎢沉積層制備工藝及方法。并開(kāi)展制備化學(xué)氣相沉積鎢涂層在復(fù)合導(dǎo)電嘴制備中應(yīng)用研究。采用化學(xué)氣相沉積法在500℃~900℃均能沉積出鎢涂層。沉積層組織結(jié)構(gòu)受沉積溫度和反應(yīng)中WE6與H2比例的影響。隨沉積溫度增加源氣體中氫氣比例加大沉積層顯微組織由柱狀晶向樹(shù)枝晶及雜亂組織方向變化。同時(shí)密度和硬度逐漸降低表面粗糙度下降表面質(zhì)量嚴(yán)重惡化涂層的耐磨性逐漸降低。沉積溫度及反應(yīng)氣體成分配比變化對(duì)于沉積膜層成分影響不大反應(yīng)氣體成分變化對(duì)鎢涂層的表面質(zhì)量的影響沒(méi)有溫度的影響大但涂層的耐磨性隨氫氣含量的增加逐漸降低。在不同工藝參數(shù)下均可以獲得具有高純度的鎢沉積層。綜合考慮以上因素在銅和銅合金基體上沉積鎢涂層的最佳工藝參數(shù)是沉積溫度為600℃反應(yīng)氣體成分配比應(yīng)為WF6H22GMIN1~2LMIN。在此工藝條件下化學(xué)氣相沉積方法制備鎢涂層沉積速度可以達(dá)到2MMHWF6氣體利用率在40%以上沉積層有很高的純度>997%和密度>19GCM3沉積層的硬度可達(dá)500HV沉積層厚度均勻、沉積層表面平整光滑耐磨性能優(yōu)異。目前國(guó)內(nèi)外使用的導(dǎo)電嘴基本上還是以銅或銅合金導(dǎo)電嘴為主在新型導(dǎo)電嘴的研制過(guò)程中很難協(xié)調(diào)好導(dǎo)電導(dǎo)熱性與高耐磨性之間的關(guān)系效果都不是很理想。根據(jù)紫銅和鎢獨(dú)特的性能和化學(xué)氣相沉積沉積鎢涂層的工藝優(yōu)勢(shì)在紫銅導(dǎo)電嘴內(nèi)壁沉積鎢涂層可使得導(dǎo)電嘴的耐磨性大幅度地提高同時(shí)外層的紫銅又有很好的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能使得此種鎢涂層復(fù)合導(dǎo)電嘴可以在滿(mǎn)足使用性能的前提下提高導(dǎo)電嘴的使用壽命。鉻鋯銅基體的導(dǎo)電嘴在拉拔制備過(guò)程中使內(nèi)孔表面惡化實(shí)際使用中鎢涂層的失效形式主要以突起、斷裂、脫落為主難以在市售的鉻鋯銅導(dǎo)電嘴基體上沉積出光滑平整的鎢涂層。以紫銅為基體的導(dǎo)電嘴其內(nèi)壁光滑平整可以在其內(nèi)壁沉積出平整均勻致密的鎢涂層具有比較理想的沉積效果磨損壽命是普通紫銅導(dǎo)電嘴的4~5倍。
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      上傳時(shí)間:2024-03-10
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    • 簡(jiǎn)介:該文采用聚氨酯海綿為基體材料以次磷酸鈉為還原劑在堿性化學(xué)鍍鎳溶液中對(duì)低磷化學(xué)鍍鎳磷合金工藝進(jìn)行了詳細(xì)的研究同時(shí)該文還采取線(xiàn)性電位掃描研究方法對(duì)化學(xué)鍍鎳沉積過(guò)程中磷析出的可能機(jī)理進(jìn)行了初步的探討在制備泡沫鎳材料的過(guò)程中首先要求在聚氨酯海綿基體上低磷化學(xué)鍍鎳制備導(dǎo)電層該文針對(duì)聚氨酯海綿基體的特殊性研究并確定了合適的前處理工藝和鍍層成分鎳和磷分析的分光光度法降低化學(xué)鍍鎳鍍層磷含量的主要方法是選擇合適的絡(luò)合劑對(duì)于以聚氨酯海綿為基體的化學(xué)鍍鎳研究認(rèn)為三乙醇胺是較好的選擇該研究采用正交試驗(yàn)方法篩選并確定了鍍層磷含量為15﹪的最佳低磷化學(xué)鍍鎳配方并研究了硫酸鎳濃度、次磷酸鈉濃度、三乙醇胺濃度和溫度對(duì)鍍層磷含量的影響
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      上傳時(shí)間:2024-03-09
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    • 簡(jiǎn)介:該文圍繞著鎂合金的預(yù)處理過(guò)程、化學(xué)鍍過(guò)程、鍍層的性能和鍍液的壽命、鍍層的初始沉積機(jī)制和結(jié)合機(jī)制、鍍層的組織結(jié)構(gòu)以及不良鍍層的退除等有關(guān)鎂合金化學(xué)鍍鎳基礎(chǔ)和應(yīng)用的各個(gè)方面進(jìn)行了全面系統(tǒng)的研究該文的創(chuàng)新之處在于以下幾個(gè)方面1系統(tǒng)地研究了鎂合金化學(xué)鍍鎳的預(yù)處理和化學(xué)鍍過(guò)程提出了鎂合金預(yù)處理工藝中用一種保護(hù)膜取代另一種保護(hù)膜的指導(dǎo)原則以避免鎂合金在預(yù)處理過(guò)程中遭受過(guò)度腐蝕采用化學(xué)鍍層與堿性ZNNI電鍍層的組合大幅度提高了鎂合金的耐蝕性耐中性鹽霧時(shí)間可達(dá)8001000HR為拓寬鎂合金的應(yīng)用領(lǐng)域打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)2提出了鎂合金化學(xué)鍍鎳的初始沉積機(jī)制和結(jié)合機(jī)制闡明了氟化物膜層在化學(xué)鍍過(guò)程中的作用這對(duì)指導(dǎo)鎂合金化學(xué)鍍鎳預(yù)處理有重大意義3歸納提出了利用XRD和DSC的組織結(jié)構(gòu)信息對(duì)化學(xué)鍍層的磷含量進(jìn)行判定的方法修正了化學(xué)鍍鎳的亞穩(wěn)態(tài)相圖闡明了過(guò)共晶成分階段鍍層的結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變特點(diǎn)4初步探討了鎂合金化學(xué)鍍液的周期使用問(wèn)題研究改進(jìn)了鎂合金化學(xué)鍍層的陽(yáng)極退除配方從而進(jìn)一步完善了鎂合金的化學(xué)鍍鎳工藝
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    • 簡(jiǎn)介:鄭州大學(xué)碩士學(xué)位論文MGXZNYAL基合金化學(xué)鍍NIP的鍍層特征及工藝研究姓名曹文博申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別碩士專(zhuān)業(yè)材料加工工程指導(dǎo)教師關(guān)紹康20040531摘要檸檬酸45559/L。3化學(xué)鍍液的PH值高,容易析出NIHP03沉淀,鍍液穩(wěn)定性差;PH值過(guò)低,鍍速緩慢,化學(xué)鍍過(guò)程難阱進(jìn)行。試驗(yàn)表明,鍍液的PH值在5565之間,鍍液的施鍍效果較好,鍍速和穩(wěn)定性都能夠得到保證。4化學(xué)鍍過(guò)程的進(jìn)行需要有一定的啟鍍溫度,溫度過(guò)低,鍍速緩慢,施鍍效率低下;溫度過(guò)高,鍍液處在熱力學(xué)不穩(wěn)定狀態(tài),很容易造成分解,造成鍍液失效,鍍層也容易出現(xiàn)氣孔、應(yīng)力等缺陷,鍍層質(zhì)量變差。試驗(yàn)結(jié)果表明,化學(xué)鍍液最佳溫度范圍應(yīng)該穩(wěn)定控制在905“C。通過(guò)對(duì)MG~XZNYAL基合金進(jìn)行施鍍后發(fā)現(xiàn),基體的成分和組織影響著化學(xué)鍍過(guò)程中鎳離子的初始沉積。由于基體中合金元素的電極電位不同,含合金元素多的相決定了鎳離子最先開(kāi)始沉積的位置。MG一8ZN一4A1合金中由于ZN和A1元素含量較高,相的組成和分布復(fù)雜,使得化學(xué)鍍過(guò)程中鎳離子較為容易產(chǎn)生沉積,施鍍速度快;AZ91和AZ31速度相對(duì)較慢經(jīng)過(guò)固溶的基體由于相的析出不明顯,鎳離子的初始沉積變得較為困難。在同樣的條件下,不管是何種鎂合金基體,得到的鍍層組織性能是相近的,通過(guò)在MG一8ZN一4M基體上施鍍后的鍍層分析表明1鎳離子和磷離子沿著基體表面的活性中心進(jìn)行初始沉積,然后以胞狀形式進(jìn)行生長(zhǎng),并向周?chē)鷶U(kuò)展,胞狀顆粒的形態(tài)影響著鍍層的表面質(zhì)量。2鍍層中磷的含量影響著鍍層的結(jié)構(gòu),在選用的配方中旌鍍后,鍍層中磷含量約為12%,鍍層為明顯的非晶結(jié)構(gòu)。3化學(xué)鍍層與基體結(jié)合良好,銼刀試驗(yàn)和熱震試驗(yàn)無(wú)明顯的脫落,但在鎳層沉積過(guò)程中,活化產(chǎn)物殘留在基體與鍍層的交界處,形成了一薄層結(jié)合較弱的部位。鹽霧試驗(yàn)表明鍍層的耐腐蝕性明顯高于基體,有助于改善基體的防護(hù)性能,而鍍層中的孑L隙是造成鍍層被腐蝕破壞的重要原因,鍍前的預(yù)鍍、鍍中的封孔以及鍍后的鈍化都可以消除不良影響,改善鍍層質(zhì)量。4施鍍后的鍍層顯微硬度為HV4346,顯著高于基體HV8448,鍍層的硬度隨著鍍層熱處理溫度的升高而增加,最高可以達(dá)到HVL000以上;鍍層結(jié)構(gòu)也發(fā)生了較大的變化,在300。C以后鍍層已出現(xiàn)明顯的晶化,4006C以后由于鍍層中NI,P相的長(zhǎng)大而使鍍層的顯微硬度有所降低。關(guān)鍵詞化學(xué)鍍NIP,MGXZNYAL合金,沉積速度,鍍層結(jié)構(gòu)
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