高精度定位裝置標(biāo)定技術(shù)研究.pdf

1、高精度定位平臺標(biāo)定技術(shù)是對高精度平臺的定位結(jié)果進(jìn)行測量和分析。高精度定位平臺是MEMS精密作業(yè)裝備中的關(guān)鍵部分，主要實現(xiàn)裝配過程中的納米級精度和分辨率的精微調(diào)整。隨著MEMS技術(shù)的發(fā)展，顯微鏡下的手工裝配已不能滿足MEMS批量化和產(chǎn)品化的要求。因此MEMS精密作業(yè)裝備是MEMS研究和開發(fā)的重要基礎(chǔ)。所以高精度定位平臺對于微電子工業(yè)發(fā)展也有著非常重要的作用。通常對于如此高精度的定位平臺，都要有一定精度的計量設(shè)備予以標(biāo)定，對于這種標(biāo)定技術(shù)的

2、研究成為了更加關(guān)鍵的問題。 高精度定位平臺的標(biāo)定技術(shù)主要涉及微位移測量技術(shù)和平臺標(biāo)定技術(shù)這兩個方面。本文的研究也是從這兩個方面展開的，主要包括以下四個部分： 1、概述了高精度定位平臺的國際國內(nèi)發(fā)展情況，分別介紹了國內(nèi)外幾個代表單位在高精度定位技術(shù)領(lǐng)域所取得的成就及其先進(jìn)的定位技術(shù)。 2、激光干涉系統(tǒng)的介紹及誤差分析研究。闡述了激光干涉儀的位移測量原理，簡要介紹本課題所采用的日本的DISTAX公司的L-LM-20B

3、型帶光纖傳導(dǎo)的小型激光干涉測量系統(tǒng)，并對其在本實驗室條件下的測量誤差作了詳細(xì)地分析。 3、對定位精度評定方法的研究。分別介紹了國際標(biāo)準(zhǔn)ISO 230-2，美國標(biāo)準(zhǔn) NMTBA，德國標(biāo)準(zhǔn)VDI/DGQ3441，日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)JIS B6330，通過比較分析，本課題選用ISO 230-2作為精度評定標(biāo)準(zhǔn)。 4、系統(tǒng)閉環(huán)光柵的標(biāo)定補償方法研究。闡述了系統(tǒng)閉環(huán)光柵標(biāo)定的必要性，并提出了系統(tǒng)閉環(huán)光柵相對零點確定方法，使系統(tǒng)閉環(huán)光柵的