高精度定位平臺標(biāo)定技術(shù).pdf

1、高精度定位平臺標(biāo)定技術(shù)是對高精度平臺的定位結(jié)果進(jìn)行測量和分析.高精度定位平臺是MEMS精密作業(yè)裝備中的關(guān)鍵部分,主要實(shí)現(xiàn)裝配過程中的納米級精度和分辨率的精微調(diào)整.隨著MEMS技術(shù)的發(fā)展,顯微鏡下的手工裝配已不能滿足MEMS批量化和產(chǎn)品化的要求.因此MEMS精密作業(yè)裝備是MEMS研究和開發(fā)的重要基礎(chǔ).所以高精度定位平臺對于微電子工業(yè)發(fā)展也有著非常重要的作用.通常對于如此高精度的定位平臺,都要有一定精度的計量設(shè)備予以標(biāo)定,對于這種標(biāo)定技術(shù)的

2、研究成為了更加關(guān)鍵的問題.高精度定位平臺的標(biāo)定技術(shù)主要涉及微位移測量技術(shù)和平臺標(biāo)定技術(shù)這兩個方面.本文的研究也是從這兩個方面展開的,主要包括以下三個部分:1、概述了高精度位移測量和定位技術(shù)的國際國內(nèi)發(fā)展情況,介紹了多種微位移測量和定位方法,并對它們各自的優(yōu)缺點(diǎn)進(jìn)行了總結(jié)和比較.在此基礎(chǔ)上,對光學(xué)測量方法中的激光干涉儀技術(shù)進(jìn)行了論述,對目前世界上較先進(jìn)的激光干涉儀性能進(jìn)行了分析比較.2、闡述了激光干涉儀的微位移測量原理,并比較了雙頻激光干

3、涉儀和單頻激光干涉儀的優(yōu)缺點(diǎn).對于激光干涉儀在測量過程中將出現(xiàn)的各種誤差進(jìn)行了分析研究.在以上各種工作的基礎(chǔ)上,為本課題選定了微位移測量儀器為東京精密生產(chǎn)的單頻激光干涉儀測量系統(tǒng)L-LM-20B.3、以單頻激光干涉儀L-LM-20B為中心,建立了標(biāo)定測量系統(tǒng).闡明了系統(tǒng)設(shè)計原理.對系統(tǒng)的各種誤差提出了補(bǔ)償方法,確定了誤差的大小.提出了系統(tǒng)的標(biāo)定工作重點(diǎn),并對標(biāo)定系統(tǒng)本身的標(biāo)定方法進(jìn)行了分析.最后在這些工作的基礎(chǔ)上,搭建了標(biāo)定測量系統(tǒng)的初