脈沖激光沉積光致發(fā)光薄膜和激光燒蝕產(chǎn)物的分布.pdf_第1頁
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1、該文主要包括兩部分.第一部分包括第三到第五章,分別介紹使用脈沖激光沉積（pulsed laser deposition,PLD）技術(shù)制備具有光致發(fā)光性質(zhì)的薄膜Sr<,2>CeO<,4>,Ga<,2>O<,3>和八羥基喹啉鋁（aluminum tris-8-hydroxyquinoline,Alq<,3>）.第二部分包括第六、第七章,分別介紹使用四極質(zhì)譜和光譜技術(shù),測(cè)定了脈沖激光燒蝕（pulsed laserablation,PLA）金屬

2、氧化物所得產(chǎn)物的質(zhì)量分布、能量分布和空間角分布,以研究其物理化學(xué)過程.PLD技術(shù)制備薄膜,由于其獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn),已最近被人們廣為利用.該文使用PLD技術(shù)制備了三種薄膜,Sr<,2>CeO<,4>,Ga<,2>O<,3>和Alq<,3>.它們都具有光致發(fā)光（photoluminescence,PL）的性質(zhì).具有PL性質(zhì)的薄膜在科研和工業(yè)生產(chǎn)中有著廣泛地應(yīng)用.發(fā)光光譜技術(shù)只限于檢測(cè)激發(fā)態(tài)粒子.為了研究基態(tài)粒子,使用了瞬態(tài)吸收光譜技術(shù)研究了激光燒

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