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文檔簡介
1、在過去的幾十年里 CMOS技術(shù)一直遵循摩爾定律高速發(fā)展,集成電路的特征尺寸持續(xù)縮小,但當(dāng)特征尺寸達(dá)到10nm的物理極限時,由于制造成本、微觀量子效應(yīng)等的影響,CMOS技術(shù)的發(fā)展將面臨嚴(yán)重挑戰(zhàn)。因此為了延續(xù)摩爾定律,必須對傳統(tǒng)的集成電路技術(shù)進(jìn)行改進(jìn)。于是,人們提出了一種 CMOS替代技術(shù),即CMOS/納米線/分子混合(CMOS/nanowire/MOLecular hybrid,CMOL)電路,該結(jié)構(gòu)將具有豐富邏輯功能的CMOS電路和高密
2、度納米線進(jìn)行了巧妙的結(jié)合。研究表明,CMOL FPGA電路在可接受的時間延遲下,其功耗和面積性能相比于CMOS FPGA電路可提高兩個數(shù)量級,使其成為最具潛力代替?zhèn)鹘y(tǒng) CMOS電路的重要技術(shù)之一,因此引起了廣泛的關(guān)注。然而,目前有關(guān) CMOL電路的計算機(jī)輔助設(shè)計工具主要是針對無納米缺陷的情況下完成電路映射的布局布線,但由于其制造工藝的限制導(dǎo)致器件缺陷率較高,良品率將大大降低,因此為使 CMOL技術(shù)運用于實際電路中必須克服這一困難。論文通
3、過對納米缺陷的研究,結(jié)合 CMOL自身結(jié)構(gòu)特點,提出了有效的缺陷容忍映射技術(shù),并在 ISCAS89標(biāo)準(zhǔn)測試電路中驗證了方法的有效性。論文的研究內(nèi)容主要包括以下三個部分:
(1)CMOL陣列缺陷模型及映射建模:通過對不同納米級缺陷類型進(jìn)行研究,根據(jù)其分布的集簇性,建立單元級的缺陷模型,簡化不同缺陷類型對電路容錯映射的影響,以便避開這些缺陷實現(xiàn)電路正確的邏輯功能。
(2)基于初始解優(yōu)化的CMOL容錯:首先對電路進(jìn)行拓?fù)渑?/p>
4、序預(yù)編碼,使同級的邏輯門處于相鄰的排序位置;再根據(jù)缺陷模型提出了分段蛇形的編碼方式,并基于預(yù)編碼的順序?qū)崿F(xiàn)電路容錯映射的初始解,提高初始解的成功率,縮小算法搜索的解空間。最后依據(jù)目標(biāo)函數(shù)設(shè)定對違反約束的映射邊的懲罰系數(shù),并用已有的進(jìn)化算法完成電路的容錯單元映射。較傳統(tǒng)的SAT技術(shù),大幅度提高了CPU運行的時間和處理大電路的能力。
(3)面向缺陷集簇分布的CMOL電路容錯映射:通過對缺陷整體性分布的研究,將集簇性的缺陷進(jìn)行分類。
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