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文檔簡(jiǎn)介
1、隨著個(gè)人電子設(shè)備朝多功能、微型化、輕薄化、系統(tǒng)高度集成化方向發(fā)展,高端個(gè)人電子產(chǎn)品,例如下一代智能手機(jī)、iPad、iPhone、數(shù)碼相機(jī)等,其制造商需要生產(chǎn)出功能強(qiáng)大、但更節(jié)能的產(chǎn)品。然而面向下一代高端個(gè)人電子產(chǎn)品的制造,最重要的技術(shù)當(dāng)屬印刷電路板(PCB)的光刻。傳統(tǒng)PCB光刻采用的是汞燈接近式的曝光技術(shù),成本高、其光刻精度低,對(duì)環(huán)境污染大。而數(shù)字光刻無(wú)論從成本,精度,亦或是生產(chǎn)效率和對(duì)環(huán)境的影響,都有著傳統(tǒng)PCB光刻無(wú)法比擬的優(yōu)勢(shì)。
2、因此針對(duì)PCB制造進(jìn)行數(shù)字光刻相關(guān)技術(shù)研究具有非常重要的意義。
基于初級(jí)像差理論本文設(shè)計(jì)了一組適合0.7XGA DMD的光刻投影物鏡,該投影物鏡組具有雙高斯對(duì)稱結(jié)構(gòu)。此結(jié)構(gòu)是最容易消除五種初級(jí)像差的初始結(jié)構(gòu)。由于只是滿足微米級(jí)PCB光刻的需要,該投影物鏡組放大率為-1,且不用非球面鏡即能讓物鏡達(dá)到13.68μm的精度。它總共由8片鏡片組成,前4片與后4片關(guān)于中心光闌對(duì)稱,因此在加工時(shí)只需加工4個(gè)透鏡的模具,這樣既可以降低成本,
3、又有利于光刻系統(tǒng)中透鏡的裝配。
基于DMD的工作方式進(jìn)行了數(shù)字光刻掃描技術(shù)研究,提出傾斜掃描的技術(shù),它的優(yōu)勢(shì)是消除了DMD的柵格效應(yīng),提高了成像質(zhì)量。結(jié)合所設(shè)計(jì)投影物鏡組它既能實(shí)現(xiàn)整數(shù)倍像素以外的線寬,又能提高圖像的分辨率。在DMD傾斜掃描模式下進(jìn)行了光刻實(shí)驗(yàn),取得了良好的實(shí)驗(yàn)結(jié)果,實(shí)現(xiàn)了非整數(shù)線寬,和其他方法用于該精度的曝光情形相比,像面照度均勻,線條清晰,邊緣陡峭且線性度好,因而能很好地滿足光刻的需要。
數(shù)字無(wú)掩
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