版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、現(xiàn)代光學(xué)和IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展要求光學(xué)器件的微型化、陣列化和集中化,從而產(chǎn)生了微光學(xué)技術(shù)。微光學(xué)技術(shù)是光學(xué)與微電子學(xué)、微機械學(xué)相結(jié)合滲透的一個學(xué)科,是研究亞微米級尺寸光學(xué)元件或光學(xué)系統(tǒng)的現(xiàn)代光學(xué)分支。
光刻技術(shù)是大規(guī)模集成電路制造技術(shù)和微光學(xué)、微機械技術(shù)的先導(dǎo)和基礎(chǔ),它決定了集成電路的集成度。光刻技術(shù)的不斷創(chuàng)新改革決定著集成電路的發(fā)展方向。光刻技術(shù)經(jīng)歷了接觸式光刻、接近式光刻、分步重復(fù)式等倍投影光刻、步進式縮小投影光刻、步進掃描式投
2、影光刻等典型光刻技術(shù)過程,極紫外光刻、X射線光刻正處于研究和使用階段。下一代光刻技術(shù)如納米壓印光刻、原子力光刻等尚處于前沿研究中。目前的IC生產(chǎn)主要應(yīng)用的就是投影光刻技術(shù)。
制作二元光學(xué)元件需要經(jīng)過多次曝光、顯影、刻蝕才能完成。每次曝光都需要一塊掩模板,曝光前,每一塊掩模板都需要和前次已經(jīng)曝光的圖像進行對準(zhǔn)后才能夠進行曝光,這樣才能保證每一層圖形有精確的相對位置,這稱為套刻對準(zhǔn)。套刻精度是投影光刻機的重要關(guān)鍵技術(shù)之一,而對準(zhǔn)精
3、度是影響套刻精度的主要因素。
本文在接觸式和接近式光刻的基礎(chǔ)上,提出了建立投影光刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)由曝光光源、掩模板、投影光刻物鏡、三維平移工作臺等部分組成。每一部分都對分辨率的提高和圖形精確度都有著很大的作用。投影光刻的工作原理主要是利用光學(xué)投影成像,將掩模板上的圖形經(jīng)過曝光的方式,通過投影光刻物鏡,成像在涂好膠的基片上進行曝光的過程。然后經(jīng)過顯影、刻蝕、套刻對準(zhǔn)后再曝光,可得到分辨率更加高的圖形。其中,套刻對準(zhǔn)是投影光刻機的關(guān)
4、鍵技術(shù)指標(biāo),對準(zhǔn)精度是影響套刻精度的關(guān)鍵因素。對準(zhǔn)的方法有很多,本文應(yīng)用的是基于moiré條紋光柵衍射形成明暗相間的條紋的原理,確定掩模板和基片的相對位置,進而進行對準(zhǔn)。
本文在討論了影響投影光刻系統(tǒng)成像因素的基礎(chǔ)上,進行優(yōu)化改進,利用長工作距離投影物鏡,自行設(shè)計、搭建了一套能夠用于光刻粗縮套刻對準(zhǔn)的實驗系統(tǒng),包括機械零部件的設(shè)計加工。并設(shè)計了一種對準(zhǔn)標(biāo)記,應(yīng)用moiré條紋對準(zhǔn)技術(shù)進行了一次套刻,基本實現(xiàn)了二元光學(xué)元件的4臺
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 光學(xué)投影式光刻系統(tǒng)中套刻對準(zhǔn)方法研究.pdf
- 光刻機精細對準(zhǔn)方法研究.pdf
- 光刻工藝中對線寬和套刻系統(tǒng)性控制的開發(fā).pdf
- 基于機器視覺的光刻機自動對準(zhǔn)系統(tǒng).pdf
- 光刻機硅片對準(zhǔn)軟件系統(tǒng)設(shè)計與實現(xiàn).pdf
- 大視場投影光刻物鏡的研究.pdf
- 投影光刻調(diào)焦及DMD無掩模光刻成像研究.pdf
- 極紫外投影光刻中若干關(guān)鍵技術(shù)研究.pdf
- 激光投影光刻機光學(xué)對位技術(shù)研究.pdf
- 亞微米投影光刻物鏡制作的幾項關(guān)鍵技術(shù)研究.pdf
- 半導(dǎo)體外延生長對光刻對準(zhǔn)的影響.pdf
- 印刷電路板的激光投影光刻的照明系統(tǒng)研究.pdf
- PCB數(shù)字光刻投影光學(xué)設(shè)計及其掃描與控制技術(shù)研究.pdf
- 極紫外光刻投影光學(xué)系統(tǒng)優(yōu)化設(shè)計.pdf
- 極紫外投影光刻掩模若干問題研究.pdf
- 外文翻譯--光刻投影鏡頭多閉環(huán)溫度控制系統(tǒng)
- 深紫外浸沒式光刻投影物鏡設(shè)計.pdf
- 基于疊柵條紋的納米光刻對準(zhǔn)理論與應(yīng)用研究.pdf
- 高能電子束縮小投影曝光機標(biāo)記信號檢測及對準(zhǔn)技術(shù)的研究.pdf
- 投影步進光刻機主控軟件研究與開發(fā).pdf
評論
0/150
提交評論