激光投影光刻機(jī)光學(xué)對(duì)位技術(shù)研究.pdf

1、光學(xué)對(duì)位技術(shù)是光刻技術(shù)最重要的技術(shù)之一，其對(duì)位精度和速度一定程度上決定了產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)率，因此研究和探索高精度的光學(xué)對(duì)位方法尤為重要。
　　 基于本課題組現(xiàn)有的激光投影光刻機(jī)進(jìn)行了光刻實(shí)驗(yàn)，并且達(dá)到了預(yù)想成果：經(jīng)過(guò)顯影后的PCB基板的線(xiàn)寬為15μm，邊緣清晰，并且通過(guò)一系列的實(shí)驗(yàn)，找到了針對(duì)本試驗(yàn)系統(tǒng)的最佳曝光條件：在距離激光定位工作臺(tái)為8cm的位置上，通過(guò)激光投影物鏡系統(tǒng)的前提下，當(dāng)激光器的重復(fù)頻率為15Hz，基板的曝光時(shí)間

2、20s，顯影時(shí)間為60s以及顯影溫度為30攝氏度可以達(dá)到最佳曝光。
　　 由于現(xiàn)有的光刻系統(tǒng)缺乏光學(xué)對(duì)位系統(tǒng)，在現(xiàn)有條件基礎(chǔ)上，自行設(shè)計(jì)并使用了一套行之有效的光學(xué)對(duì)位系統(tǒng)，該光學(xué)系統(tǒng)的對(duì)位精度達(dá)到2μm，可以實(shí)現(xiàn)XYZ三個(gè)維度的調(diào)節(jié)。該光學(xué)系統(tǒng)的創(chuàng)新之處體現(xiàn)在不再采用機(jī)械方法進(jìn)行自動(dòng)調(diào)焦，而是利用實(shí)驗(yàn)過(guò)程中總結(jié)的關(guān)于焦深及焦平面的規(guī)律對(duì)對(duì)位方法中的自動(dòng)對(duì)焦算法進(jìn)行了改進(jìn)。
　　 結(jié)合現(xiàn)有的光學(xué)系統(tǒng)，選擇光度型光學(xué)對(duì)位系統(tǒng)