光刻機微動測量系統(tǒng)數(shù)據(jù)處理方法研究.pdf

1、光刻機是IC芯片制造業(yè)中主要使用的精密設(shè)備，而在光刻機系統(tǒng)中，光刻機微動測量系統(tǒng)是其中的一個關(guān)鍵子系統(tǒng)，因為其測量理論和方案較好的證實了光刻機系統(tǒng)的所有特性，例如：超高精度、很強的實時性等等，另外，由光刻機的結(jié)構(gòu)可知，其測量系統(tǒng)是一個六自由度并且大量程的系統(tǒng)。因此，對光刻機微動測量系統(tǒng)的研究是整個光刻機系統(tǒng)的重要課題。
　　本論文基本完成以下幾點：光刻機掩模臺的整體結(jié)構(gòu)、微動測量系統(tǒng)的傳感器布局（包括雙頻激光干涉儀布局和霍爾傳感器

2、布局）、微動測量系統(tǒng)的建模分析、微動測量系統(tǒng)的誤差來源及分析（外界誤差分析和自身誤差分析）、測量系統(tǒng)模型的解算和誤差補償前后的仿真、激光干涉儀零位校準(zhǔn)和微動測量系統(tǒng)的實驗驗證等等。
　　首先，分析了光刻機系統(tǒng)的指標(biāo)要求和實時性要求，這為傳感器的布局提供技術(shù)前提。根據(jù)華中科技大學(xué)團隊的傳統(tǒng)激光干涉儀布局和本系統(tǒng)對 Z向精度的要求，設(shè)計出了利用激光干涉儀測量Z向位置的傳感器布局，提高了Z向的測量精度。
　　其次，在對測量系統(tǒng)進行

3、建模時，充分考慮到控制的要求，運用了向量和坐標(biāo)的方式來進行推導(dǎo)，而且機械上的各種誤差和六自由度的耦合都充分考慮到，所以，此建模方案應(yīng)為微動測量系統(tǒng)的完整建模。
　　再次，針對微動測量系統(tǒng)，對傳感器帶來的誤差進行詳細的分析和推導(dǎo)。針對激光干涉儀自身的誤差和外界條件引起的誤差，給出了其誤差補償?shù)姆桨?。而在針對光刻機掩模臺微動臺的測量要求所需要的快速的計算和存儲能力時，分別對光刻機掩模臺中某一單個自由度和整體的六個自由度測量系統(tǒng)進行數(shù)據(jù)