光刻機(jī)掩模微動(dòng)臺(tái)耦合誤差分析及控制器設(shè)計(jì).pdf

1、光刻機(jī)的制造建立在一個(gè)國(guó)家強(qiáng)大的科技實(shí)力和工業(yè)基礎(chǔ)之上。光刻機(jī)的研發(fā)需要多個(gè)學(xué)科的交叉合作。掩模臺(tái)在光刻機(jī)工作中負(fù)責(zé)實(shí)現(xiàn)掩模板的精確運(yùn)動(dòng)。不斷提升掩模臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制的精度關(guān)系到能否進(jìn)一步提升光刻機(jī)的性能指標(biāo)。掩模臺(tái)采用了宏動(dòng)結(jié)合微動(dòng)的控制方式，而微動(dòng)臺(tái)又直接體現(xiàn)著掩模臺(tái)的控制精度。為實(shí)現(xiàn)微動(dòng)臺(tái)的高精度伺服運(yùn)動(dòng)，本文主要有以下研究?jī)?nèi)容。
　　本文介紹了當(dāng)前國(guó)內(nèi)外光刻機(jī)、滑?？刂评碚摷凹夹g(shù)和粒子群學(xué)習(xí)算法的發(fā)展現(xiàn)狀。
　　本文隨后分

2、析了光刻機(jī)整機(jī)，掩模臺(tái)以及微動(dòng)臺(tái)的工作原理，所受擾動(dòng)，存在誤差以及控制系統(tǒng)的具體實(shí)現(xiàn)。
　　其次，光刻機(jī)掩模臺(tái)微動(dòng)臺(tái)上裝有6個(gè)音圈電機(jī)和6個(gè)霍爾傳感器。根據(jù)電機(jī)安裝位置，完成了電機(jī)力學(xué)解耦，隨后針對(duì)控制過(guò)程中質(zhì)心與曝光中心的偏移，提出了質(zhì)心偏移的分析方法，此方法的正確性和有效性得到了仿真實(shí)驗(yàn)的驗(yàn)證，在測(cè)量元件實(shí)際安裝幾何尺寸的基礎(chǔ)上，完成了測(cè)量耦合模型的建立。
　　再次，針對(duì)掩模臺(tái)抗擾動(dòng)的工作要求，設(shè)計(jì)了基于指數(shù)趨近率的滑模