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文檔簡介
1、微電子技術(shù)的高速發(fā)展,特別是電路芯片集成度的急劇提高,導(dǎo)致光刻技術(shù)中的關(guān)鍵尺寸(Critical Dimension,CD)不斷變小,隨之帶來焦深的急劇減小的,調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)是光刻機關(guān)鍵子系統(tǒng)之一,可以有效地補償誤差源的影響,提高套刻精度,從而提高光刻機的曝光質(zhì)量。本學(xué)位論文在國家863重大專項子課題“光刻機調(diào)焦調(diào)平與自動對準(zhǔn)系統(tǒng)”的資助下,重點對基于機器視覺的調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)進行了較深入的研究。
針對基于機器視覺的光刻機調(diào)焦調(diào)
2、平測量特點,設(shè)計了采用整場調(diào)焦調(diào)平和逐場調(diào)焦不調(diào)平相結(jié)合的硅片調(diào)焦調(diào)平流程,提出了硅片單點高度測量、整場調(diào)焦調(diào)平以及系統(tǒng)標(biāo)定等模型算法。
設(shè)計開發(fā)了一套光刻機調(diào)焦調(diào)平軟硬件實驗系統(tǒng),實現(xiàn)了硅片單點高度測量功能。根據(jù)調(diào)焦調(diào)平測量要求,設(shè)計了調(diào)焦調(diào)平實驗系統(tǒng)光學(xué)結(jié)構(gòu);按照光刻機整機控制系統(tǒng)層次結(jié)構(gòu),組建了調(diào)焦調(diào)平實驗系統(tǒng)控制硬件平臺;采用客戶端-服務(wù)器端模式,編制實現(xiàn)了調(diào)焦調(diào)平實驗系統(tǒng)軟件。
研究了基于線陣CCD
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