投影步進(jìn)光刻機(jī)主控軟件研究與開發(fā).pdf

1、以微電子技術(shù)為基礎(chǔ)、集成電路為核心的信息產(chǎn)業(yè)是目前國際上的朝陽產(chǎn)業(yè)，在國民經(jīng)濟(jì)中所占比重和影響越來越大。在國防科技方面，集成電路技術(shù)己成為高科技尖端武器裝備最為基本的基礎(chǔ)支撐技術(shù)。集成電路產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展和技術(shù)進(jìn)步，首先源于光學(xué)光刻技術(shù)的發(fā)展。分步投影光刻機(jī)是集成電路生產(chǎn)中最為關(guān)鍵的工藝設(shè)備，只有高水平的分步投影光刻機(jī)，才能生產(chǎn)高水平的集成電路。隨著我國經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展，國內(nèi)的電子行業(yè)也隨著全球電子行業(yè)突飛猛進(jìn)，尤其微電子行業(yè)更是前所未有。

2、西方國家長(zhǎng)期將分步投影光刻機(jī)列為重要的戰(zhàn)略物資，所以研制國產(chǎn)的分步投影光刻機(jī)是解決我國電子行業(yè)受制于人的唯一途徑。 本文就國產(chǎn)光刻機(jī)的主控軟件作了如下的分析研究： 1)論文分析了國內(nèi)外投影光刻機(jī)的發(fā)展歷程和現(xiàn)狀，參考大量國內(nèi)外文獻(xiàn)，研究了相關(guān)的光刻機(jī)資料，較為詳盡的分析了光刻機(jī)軟件面臨的情況，提出了國內(nèi)光刻機(jī)開發(fā)的一套控制應(yīng)用軟件開發(fā)思路。 2)根據(jù)對(duì)這些問題的分析，描述了光刻機(jī)軟件的需求分析，通過對(duì)光刻機(jī)用途的

3、闡述，詳細(xì)說明了軟件的設(shè)計(jì)需求和功能定義。實(shí)現(xiàn)了0.5微米投影步進(jìn)光刻機(jī)的主控軟件功能以及相關(guān)輔助軟件的功能。對(duì)光刻機(jī)中難度較大的對(duì)準(zhǔn)模塊進(jìn)行了原理論述和軟件算法實(shí)現(xiàn)等功能的詳細(xì)論述。 3)通過0.5微米投影步進(jìn)光刻機(jī)研制的成果，解決了國產(chǎn)分步投影光刻機(jī)主控軟件的空白，為目前正在研制的“863”項(xiàng)目O．1微米掃描光刻機(jī)的主控軟件研制提供了基礎(chǔ)和研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，為早日實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)化奠定了基礎(chǔ)。 本文最后還展望了本課題的發(fā)展