步進掃描光刻機關鍵微位移機構的研發(fā).pdf

1、在光刻機的研發(fā)和制造過程中，最重要的課題之一就是設計制造出滿足納米加工需求的超高精度微位移機構。納米加工技術的發(fā)展，尤其是各種光刻技術的發(fā)展，離不開精密機械技術的發(fā)展和進步。隨著光刻機技術的發(fā)展，對精密技術的要求不斷提高，某些關鍵機械結構定位精度逐漸向納米級發(fā)展。因此使得機械設計工程師們迫切需要尋找更好的微位移機構設計方案。柔性鉸鏈因為結構上一體化和利用彈性變形產生運動和傳遞能量的特點，決定了柔性鉸鏈具有以下特點:無空回、無摩擦、無間隙

2、、無噪聲、無磨損、空間尺寸小、運動靈敏度高。正是這些優(yōu)點，使得柔性鉸鏈能夠達到納米級分辨率，亞微米級或納米級重復定位精度和微米級甚至毫米級運動范圍。柔性鉸鏈結構己經成為精密技術的重要手段。在光刻機的工件臺，掩模臺，物鏡光學系統(tǒng)等多個關鍵結構設計中它都被廣泛采用。在光刻機中采用基于柔性鉸鏈的微位移機構，可以大大提高機構的運動精度，縮小機構的整體尺寸，滿足了光刻機的設計需求。
　　本論文從光刻機精密工件臺以及物鏡光學系統(tǒng)的實際需求出發(fā)