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文檔簡介
1、擴散制作P-N結(jié)是晶體硅電池的核心,也是影響電池質(zhì)量好壞的關鍵因素之一。對于擴散工藝而言,擴散均勻性好,可以提高電池的后續(xù)參數(shù)的可控性。擴散的均勻性直接體現(xiàn)在硅片形成的P-N結(jié)結(jié)深的差異上:均勻性好代表著結(jié)深的差異性較小;反之結(jié)深差距較大。結(jié)深差距大會使多種衡量太陽能電池的重要參數(shù)波動大,一致性差,生產(chǎn)出的電池片質(zhì)量得不到保證。在生產(chǎn)過程中通常采用方塊電阻阻值的均勻性來衡量P-N結(jié)結(jié)深的均勻性。
本文首先對影響擴散雜質(zhì)均勻性的
2、因素進行實驗分析,然后提出提高擴散雜質(zhì)均勻性的改進性實驗設計,并通過具體實驗進行驗證。對影響擴散均勻性的因素研究主要包括:(a)設備方面主要研究了擴散爐口的密封性對擴散均勻性的影響。當密封性不好時,尾氣從爐口泄露而出,從尾氣管流出的尾氣減少,因而尾氣管的溫度下降,導致尾氣管處擴散的雜質(zhì)濃度下降,影響了擴散雜質(zhì)均勻性;(b)在工藝參數(shù)方面,主要分析研究了氣流配比、低溫沉積時間、通磷源的時間和溫度對擴散均勻性的影響。大氮流量22L/min改
3、為25L/min,小氮流量從1.1L/min改為1.3L/min,氧氣流量從1.0L/min降到0.8L/min,同時增加3分鐘的低溫通源時間,擴散溫度降低了5度。我們比較了更改前后擴散方塊電阻數(shù)據(jù),在均值水平為35Ω/□的條件下,經(jīng)過參數(shù)調(diào)節(jié)后的爐口方塊電阻極差減少3Ω/□左右,爐中方塊電阻極差減少2Ω/□左右,擴散雜質(zhì)均勻性提高;(c)簡要分析研究了均流板設計、廢棄排放位置、排風量大小對擴散雜質(zhì)均勻性的影響。
在對影響均勻
4、性因素分析研究的基礎上,提出了工藝的流程改進——兩部擴散法。即低溫沉積、高溫推進擴散方式,替代傳統(tǒng)的單步恒溫擴散,通過實驗,得出優(yōu)化的擴散條件:低溫600~800度時通源沉積P2O5,高溫850~880度時推進,沉積時間10min,小氮流量設定為1000mL/min,氧氣量至少為25mL/min,試驗選取過量的氧氣,保證POCl3完全反應。擴散的不均勻度由10.6%降低到5.09%,同時用軟件對結(jié)果進行模擬驗證和測試,也證明改進后流程的
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