版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、慣性受約核聚變(Inertial confinement fusion,ICF)是一種可控制的熱核爆炸,是未來(lái)獲取核能環(huán)保能源最有前途的手段之一。從長(zhǎng)遠(yuǎn)看,ICF工程在解決人類未來(lái)能源短缺的問(wèn)題方面具有實(shí)際的應(yīng)用前景,已經(jīng)受到世界各國(guó)的普遍關(guān)注。強(qiáng)激光頻率轉(zhuǎn)換晶體是ICF系統(tǒng)中高功率激光器的重要光學(xué)元件,盡管目前新型的非線性光學(xué)晶體材料不斷涌現(xiàn),但綜觀其光學(xué)性能和生長(zhǎng)特性,到目前為止,能滿足ICF研究所需要的高激光損傷閾值大尺寸晶體,也
2、僅有磷酸二氫鉀/氘化磷酸二氫鉀(KDP/DKDP)晶體。DKDP晶體在ICF工程中作為三倍頻晶體最大優(yōu)點(diǎn)在于其可以有效降低高功率密度激光下所產(chǎn)生的受激拉曼散射波(SRS)。但是目前生長(zhǎng)出來(lái)的晶體的激光損傷閾值還是比理論計(jì)算出來(lái)的結(jié)果低一個(gè)數(shù)量級(jí),這嚴(yán)重限制了激光輸出的能量密度和晶體使用壽命,成為制約慣性約束聚變發(fā)展和應(yīng)用的瓶頸。如何提高DKDP晶體的光損傷閾值一直是國(guó)內(nèi)外研究的熱點(diǎn)。
激光引起光學(xué)元件的損傷是一個(gè)復(fù)雜的過(guò)程
3、,它由激光參數(shù)和元件性質(zhì)兩方面決定。光學(xué)材料的物理性質(zhì)對(duì)其激光損傷有明顯影響,目前對(duì)它們之間的關(guān)系還未完全了解,但是有些研究結(jié)論還是得到了較普遍的肯定。了解材料和元件的物理參數(shù)對(duì)預(yù)測(cè)激光誘導(dǎo)損傷的可能性非常重要。本文生長(zhǎng)制備了系列氘含量DKDP晶體,并按照“0902”要求利用不同原料和方法生長(zhǎng)了晶體氘含量為80%的DKDP晶體;從DKDP晶體材料力學(xué)、熱學(xué)、電學(xué)、光學(xué)等基本性能與結(jié)構(gòu)之間的關(guān)系入手,探討三倍頻DKDP晶體損傷產(chǎn)生的材料影
4、響因素,結(jié)合對(duì)特定激光參數(shù)下DKDP晶體的損傷特性規(guī)律研究,為使用者提供參考。
1.采用點(diǎn)籽晶快速法生長(zhǎng)了系列不同氘含量DKDP晶體,其次采用不同原料、不同生長(zhǎng)方法生長(zhǎng)了80%DKDP晶體,對(duì)這些晶體的生長(zhǎng)過(guò)程進(jìn)行了研究,同時(shí)還對(duì)系列氘含量晶體的晶胞參數(shù)和結(jié)構(gòu)完整性進(jìn)行了分析。
A原料所配置的溶液穩(wěn)定性不高,生長(zhǎng)過(guò)程中容易出雜晶,并且雜晶生長(zhǎng)較快;B原料料所配溶液穩(wěn)定性較好,后期溶液中出現(xiàn)絮狀不溶物,但是溶液
5、中沒有出現(xiàn)雜晶,晶體正常生長(zhǎng);C原料溶液中后期也出現(xiàn)雜晶,但是雜晶生長(zhǎng)速度較慢,對(duì)晶體生長(zhǎng)影響較小。對(duì)比研究發(fā)現(xiàn),原料純度較高時(shí),雜質(zhì)離子含量低,對(duì)晶體柱面的阻礙作用較小,有利于晶體的快速生長(zhǎng)。
快速生長(zhǎng)的晶體中吸附的雜質(zhì)金屬離子含量要明顯多于傳統(tǒng)法生長(zhǎng)的晶體。傳統(tǒng)晶體中雜質(zhì)金屬離子含量分布較均勻,錐頭和帽區(qū)附近金屬離子含量沒有明顯的差別。而對(duì)于快速生長(zhǎng)的晶體,柱面區(qū)雜質(zhì)金屬離子含量相對(duì)于錐面區(qū)明顯更高。
低
6、氘晶體和高氘晶體可以分別看作是低摻氘KDP晶體和低摻氫DKDP晶體,這說(shuō)明少量的摻雜會(huì)降低晶體的結(jié)構(gòu)完整性。而處于中間濃度的晶體結(jié)晶完整性較好。
2.測(cè)定了點(diǎn)籽晶技術(shù)生長(zhǎng)的系列氘含量DKDP晶體的(001)面、(100)面和三倍頻面在載荷從5g到100g的變化范圍內(nèi)的維氏硬度指數(shù)?;贙DP晶體力學(xué)性質(zhì)分析了不同載荷、不同面上的壓痕。隨著晶體中氘含量的增加,晶體不同面的維氏硬度逐漸較小。這種結(jié)果主要是由于氫鍵在氘對(duì)氫取代之
7、后結(jié)合力變?nèi)跛?。我們認(rèn)為氫鍵對(duì)影響晶體硬度起到主要的作用。由于O-H鍵平行于[100]和[010]方向,不同面的硬度出現(xiàn)了明顯的各向異性。K(H1-xDx)2PO4晶體的加工硬化系數(shù)隨著晶體氘含量的增加而逐漸增大,這跟實(shí)驗(yàn)得到的維氏硬度結(jié)果是相一致的。
3.對(duì)不同氘含量DKDP晶體的熱學(xué)性質(zhì)進(jìn)行了詳細(xì)的測(cè)試,包括比熱、熱膨脹、熱導(dǎo)率等。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),受生長(zhǎng)條件的影響,氘含量對(duì)晶體熱學(xué)性質(zhì)的影響不明顯。我們測(cè)試所得的系列氘含量
8、晶體的比熱與理論計(jì)算(135.97 g·mol-1)相差不多,這表明在測(cè)試的溫度范圍之內(nèi),K(H1-xDx)2PO4晶體的比熱符合杜隆—珀替定律和柯普定律。此外隨著氘含量的增加,晶體的相轉(zhuǎn)變溫度和相變潛熱基本有一個(gè)下降的趨勢(shì)。
隨著溫度的升高,晶體a方向和c方向的熱膨脹系數(shù)先緩慢增大,最后趨于平穩(wěn)。隨著晶體氘含量的增加,晶體的兩個(gè)方向上的熱膨脹系數(shù)比率(c/a)有增大的趨勢(shì)。這表明,在晶體中摻入氘量增大,晶體的各向異性增大
9、,在生長(zhǎng)或者切割過(guò)程中受開裂影響更大。
4.測(cè)試了點(diǎn)籽晶快速法生長(zhǎng)的系列氘含量DKDP晶體的電學(xué)性質(zhì),包括電導(dǎo)率、介電常數(shù)、彈性常數(shù)、壓電常數(shù)。
DKDP晶體的電導(dǎo)率隨著晶體中氘含量的增加而增大。而且,根據(jù)電導(dǎo)率的變溫測(cè)試結(jié)果,晶體電導(dǎo)活化能隨著氘含量的增加逐漸減小。目前的結(jié)果證實(shí)了氘原子在氫鍵上隧穿頻率要比氫原子小,這可能是導(dǎo)致KDP晶體的電導(dǎo)率在氘取代氫之后增大的原因。
DKDP晶體的介電常
10、數(shù)隨著晶體中氘含量的增加而逐漸增大,沿著a方向的相對(duì)介電常數(shù)大于沿著c方向的介電常數(shù),但沿著c方向的相對(duì)介電常數(shù)增大的更快。隨著外加電場(chǎng)頻率的增大,各氘含量晶體的相對(duì)介電常數(shù)是逐漸增大的,并且相對(duì)介電常數(shù)ε11比ε33增大的更快。
實(shí)驗(yàn)確認(rèn)了KDP晶體的彈性順度常數(shù)S11約為31 pm2N-1,這與前人報(bào)道有一定區(qū)別。在所有彈性常數(shù)中S11,S44,和S66相對(duì)較大。而且,隨著晶體氘含量的增加,S11,S44,和S66逐漸
11、的增大,但是S12,S13,和S33沒有明顯的變化。
DKDP晶體的壓電常數(shù)d36隨著晶體中氘含量的增加而增大,但是d14的這種趨勢(shì)很微小。這是由于氘取代氫之后,PO4四面體中P-O鍵長(zhǎng)增大PO4更容易發(fā)生變形所致。隨著氘含量的增加,壓電應(yīng)變常數(shù)e36逐漸增大,e14基本沒有變化。機(jī)電耦合系數(shù)Kij的變化遵循相同的規(guī)律。
5.對(duì)系列氘含量DKDP晶體和不同原料、方法生長(zhǎng)的80%DKDP晶體的光學(xué)性質(zhì),包括透過(guò)
12、光譜、系列氘含量晶體的拉曼光譜、激光損傷閾值和損傷特性進(jìn)行了研究。
隨著晶體氘含量的增加,晶體的透過(guò)光譜范圍變大,紅外部分透過(guò)向更長(zhǎng)波長(zhǎng)處移動(dòng),這種變化是由于氫鍵中氫原子被氘原子取代所致,D-O鍵相比于H-O鍵的結(jié)合力更弱。對(duì)于80%DKDP晶體,傳統(tǒng)法生長(zhǎng)的晶體在紫外區(qū)域的透過(guò)率要比快速法生長(zhǎng)的晶體明顯要高。在800~1900 nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)傳統(tǒng)法生長(zhǎng)的晶體比快速法生長(zhǎng)的晶體的透過(guò)范圍更寬。
系列氘含量DK
13、DP晶體的偏振拉曼光譜測(cè)試表明,隨著氘含量的增加,(H/D)2PO4-陰離子基團(tuán)內(nèi)振動(dòng)模的拉曼峰出現(xiàn)紅移,這是由于氘取代氫之后P-O鍵的結(jié)合力變?nèi)跛?。此外,隨著晶體中氘含量的增加,X(YY)(X)和X(ZZ)(X)兩種配置下最強(qiáng)峰的峰強(qiáng)呈現(xiàn)先減后增的趨勢(shì),在晶體氘含量約為74%時(shí)達(dá)到最小值。從應(yīng)用的角度看,這個(gè)結(jié)果對(duì)選擇何種氘含量的DKDP晶體作為高功率大口徑激光系統(tǒng)中三倍頻晶體有一定的參考價(jià)值。
Z切樣品的閾值高于三倍
14、頻切樣品,我們推測(cè)DKDP晶體的本征力學(xué)性能各向異性和晶體中非球吸收體的存在導(dǎo)致了激光損傷閾值的方向性。DKDP晶體的激光損傷閾值隨著氘化程度的增加而降低,這種結(jié)果歸因于隨著氘化程度增加晶體結(jié)構(gòu)中主要方向上化學(xué)鍵強(qiáng)度的逐漸降低。在相同的生長(zhǎng)溫度下,DKDP晶體的激光損傷閾值與原料(主要金屬雜質(zhì)含量在1ppm以下)的純度關(guān)系不大,但是采用高純?cè)嫌兄诰w均勻性的提高。對(duì)于傳統(tǒng)生長(zhǎng)的晶體,從低密度區(qū)域(靠近錐頭)取出的樣品的激光損傷閾值更
15、高。
1064nm激光作用下,損傷點(diǎn)是由中心點(diǎn)、定向裂紋和周圍微變化區(qū)域組成,中心點(diǎn)空洞尺寸在2~30μn之間,主要為6~8μm。355nm激光作用下?lián)p傷點(diǎn)也是由中心點(diǎn)、周圍微變化區(qū)域組成,偶爾會(huì)存在定向裂紋,中心點(diǎn)的尺寸1~10μm,大部分在5μm以下。相比較1064nm光損傷,355nm光損傷點(diǎn)密度更大,尺寸更小。此外,單晶中激光誘導(dǎo)損傷的形狀有一定規(guī)律,這跟晶體的彈性對(duì)稱性有關(guān)。拉曼測(cè)試表明,表?yè)p傷點(diǎn)的物質(zhì)形態(tài)有一定
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- DKDP晶體生長(zhǎng)及其性質(zhì)與性能研究.pdf
- 高質(zhì)量DKDP晶體生長(zhǎng)及其電光性質(zhì)研究.pdf
- 大尺寸KDP-DKDP晶體熱學(xué)性質(zhì)及其均勻性研究.pdf
- KDP-DKDP晶體非線性吸收與非線性折射性質(zhì)研究.pdf
- KDP(DKDP)晶體中散射顆粒的研究.pdf
- DKDP晶體生長(zhǎng)及其結(jié)構(gòu)修復(fù)研究.pdf
- KDP、DKDP晶體拉曼散射特性研究.pdf
- DKDP晶體生長(zhǎng)條件優(yōu)化及退火研究.pdf
- pznpt晶體的制備及光學(xué)性質(zhì)的研究
- ZnO晶體制備工藝的研究.pdf
- KDP與DKDP晶體的定向生長(zhǎng)及性能研究.pdf
- 鎳光子晶體制備及其性能研究.pdf
- 中紅外波段的ZnSe晶體制備及性能研究.pdf
- DKDP晶體生長(zhǎng)及其摻質(zhì)改性研究.pdf
- 番茄紅素提取及晶體制備新工藝研究.pdf
- CeB6晶體制備及其性能研究.pdf
- PZN-PT晶體的制備及光學(xué)性質(zhì)的研究.pdf
- DKDP晶體的全方位生長(zhǎng)及其光學(xué)均勻性研究.pdf
- 納米硅晶體的制備及其性質(zhì)研究.pdf
- KDP-DKDP晶體生長(zhǎng)及其殘余應(yīng)力研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論