四氫嘧啶制備技術研究.pdf

1、滲透壓補償溶質是指那些與細胞內的體系相容而不影響其它生物大分子功能的溶質。其中四氫嘧啶是中度嗜鹽菌中普遍存在的一種滲透壓補償性溶質。四氫嘧啶在制藥、食品、化妝品、生物制劑、酶制劑、農業(yè)和化學合成藥物及有機電子材料等領域具有很大的應用價值和廣泛的應用前景,它的研究受到關注。目前,人們把大量的興趣投注在菌株選擇和制備工藝上,以期獲得最大產量的四氫嘧啶。但是,四氫嘧啶是嗜鹽菌胞內產物,其產量較低,分離提取的生產成本較高,制約了它的推廣應用。因

2、此,提高產量的研究具有重要意義。
　　 為了提高四氫嘧啶的制備效率,本文從合成四氫嘧啶的常用菌株中篩選出胞內濃度閾值最高的H.venusta DSM4743菌株作為制備四氫嘧啶的最優(yōu)菌株,分別考察了碳源、NaCl濃度、酵母膏添加量對H.venusta DSM4743菌株合成四氫嘧啶的影響,得到了最優(yōu)化條件為:MG培養(yǎng)基,1.5mol／L的NaCl濃度,0.5％的酵母粉添加量。據此分別用分批發(fā)酵罐法和流加發(fā)酵罐法考察了Hvenus

3、ta DSM4743菌株的四氫嘧啶合成效率,其中流加發(fā)酵罐法四氫嘧啶合成效率最高,是合成四氫嘧啶更為優(yōu)越的一種方法。
　　 為了考察菌株H.venusta DSM4743在低滲條件下四氫嘧啶的釋放率,本文進行了細菌擠奶試驗,經過6次滲透壓沖擊循環(huán)后,四氫嘧啶的總合成量可達14.7g／L,總釋放量達到14.3g／L,平均釋放率為97％,合成效率為2.1g／(L·d)。
　　 本文還嘗試了合成四氫嘧啶的新方法,采用逐步提高培