PDMS掩模制備與電解加工微小凹坑陣列試驗研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、隨著科技發(fā)展的日新月異，表面織構(gòu)技術(shù)已經(jīng)在降低能耗，改善機械零件工作性能等工程領(lǐng)域發(fā)揮著不可或缺的作用。因此，如何實現(xiàn)低成本、高精度表面織構(gòu)的加工，已成為學術(shù)界競相研究的熱點。
　　本文在原有掩模電解加工微小凹坑陣列的基礎上，提出了PDMS掩模電解加工方法，針對PDMS掩模的制各，提出了真空輔助模塑法，并進行了相關(guān)試驗研究，內(nèi)容主要涵蓋:
　　(1)開展SU-8膠微柱體陣列光刻工藝試驗，作為制備PDMS掩模的母模，研究了各參

2、數(shù)對試驗結(jié)果的影響，提出在原始基底表面預涂一層BN308薄光刻膠，以提高SU-8膠微柱體的結(jié)合力，并進行了對比試驗研究，利用優(yōu)化所得工藝參數(shù)獲得平均直徑/中心距為100.7μm/500μm，高度為250μm的SU-8膠微柱體陣列。
　　(2)開展真空輔助模塑法制作PDMS掩模工藝試驗，研制了真空輔助模塑法成形模具，研究了固化溫度與時間，以及絕對真空度對PDMS掩模質(zhì)量的影響，利用優(yōu)化所得參數(shù)獲得平均直徑/中心距為96μm/500μ

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