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文檔簡介
1、本文綜述了分子印跡聚合物合成技術(shù)的最新發(fā)展,著重介紹了基于硅膠表面修飾的合成技術(shù)發(fā)展,綜述了近年來分子印跡技術(shù)在色譜分離、模擬抗體、固相萃取、仿生傳感等方面的應(yīng)用,并對本課題研究的目的及思路作了簡要的介紹。
本文用本體聚合法,探討了以氨基安替比林為模板分子,以甲基丙烯酸為功能單體,以二甲基丙烯酸乙二醇酯為交聯(lián)劑的聚合體系的可行性,并對致孔劑的種類和用量作了優(yōu)化,然后用犧牲硅膠骨架法作為工藝上的一種改進。采用兩種不同極性鍍層的硅
2、膠為犧牲材料,著重研究極性不同的載體對分子印跡聚合物性能的研究。利用紫外-可見分光光度法對印跡聚合物的性能進行了研究。
本文對影響聚合物性能的主要因素進行探討。重點討論了聚合前復合物的穩(wěn)定程度;聚合中反應(yīng)溫度的控制;后處理中碾磨強度與程度、沈滌方法等;以及使用過程中溶解與溶脹等因素對聚合物性能的影響。通過等溫吸附研究說明了聚合物飽和吸附量的差異,指出了鍍層極性不同對印跡效應(yīng)的影響;通過吸附動力學說明了聚合物顆粒對模板分子吸附速
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