某型MCU中掩膜ROM設計.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、隨著科學與經(jīng)濟的不斷發(fā)展,中國已經(jīng)成為世界消費類電子產(chǎn)品的重要生產(chǎn)基地和消費大國,市場對具有各種功能芯片的需求與日俱增,其中MCU芯片以其較高的性價比被廣泛應用在眾多消費類電子產(chǎn)品中。市場的激烈競爭使得MCU芯片制造廠家們對于生產(chǎn)成本的控制十分嚴格。而ROM作為影響MCU芯片成本的關鍵因素,受到設計者們高度的重視。
   整個只讀存儲器(ROM)模塊是在總體設計方案確定之后,按照技術(shù)指標對電路各個功能模塊進行設計。在設計存儲陣列

2、的時候,提出了一種新的結(jié)構(gòu):Flat-Cell存儲結(jié)構(gòu),由于在Flat-Cell工藝中單元陣列全部設計在一個大的有源區(qū)上,是一種平面結(jié)構(gòu),存儲單元之間是靠PN結(jié)進行隔離,不存在場氧化層。所以不會因為場區(qū)熱氧化雜質(zhì)再分布而使溝道寬度減小,不會有鳥嘴現(xiàn)象發(fā)成,也不會產(chǎn)生窄溝道效應,因此會使單元面積大為減小,集成度提高,性能可靠,同時也降低了制造成本。Flat-Cell技術(shù)的提出與應用使得ROM的技術(shù)指標得到了很大的提高?;贔lat-Cel

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