可變線寬的無掩膜光刻理論與技術(shù)研究.pdf_第1頁
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文檔簡(jiǎn)介

1、　　本論文研究了無掩膜光刻調(diào)焦系統(tǒng)的光學(xué)原理與設(shè)計(jì)，還研究了可變線寬的離焦光刻理論，此外也對(duì)無掩膜光刻系統(tǒng)的實(shí)現(xiàn)和應(yīng)用進(jìn)行了分析?！　≡谡{(diào)焦方案的選擇方面，首先對(duì)基于能量信息的離焦信號(hào)進(jìn)行了穩(wěn)定性分析，然后分別研究了基于四象限探測(cè)器的象散調(diào)焦法和基于單象限探測(cè)器的共焦調(diào)焦法，最終選擇采用基于二象限探測(cè)器的離軸調(diào)焦方案，并對(duì)此新方案進(jìn)行了詳盡的研究和分析，包括離焦信號(hào)的算法、光學(xué)參數(shù)的優(yōu)化、光斑橢圓化、微動(dòng)臺(tái)的物理模型等。　　在離焦光

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