

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
1、復旦大學碩士學位論文關于深亞微米器件GOI及NBTI可靠性問題的研究姓名:許松申請學位級別:碩士專業(yè):電子與通訊工程指導教師:劉冉20080328AbstractWithcontinuingdevelopmentofsemiconductortechnologythetransistordimensionsarekeepingscalingdownfromsubmicrontonanometertechnologyAecordingto
2、theMoore’SLawthenumberoftransistorsormemorybitsisdoublingevery15to2yearsWiththegateoxidethinning,channellengthshrinkingandetcforthedownscaling,thecriticalelectricalparametersofCMOSdevices,suchasthresholdvoltageshiftGmdeg
3、radationgate/drain/substratecurrentandjunctionleakage,alegettingworseandworse,andthusstronglyimpactdevicelifetimeandlimitthefLlrtherdevelopmentofthetechnologynodeInthisworkweconductthereliabilitytestofGateOxideIntegrity(
4、GODandNegativeBiasTemperatureInstability(NBTI)andwillfocusmainlyonthefailuremechanism,therelativetestmethodologytestflowtestkeyanddataanalysisFurthermorethestatisticalprocesscontrolmethodofsemiconductormanufactureiSalsod
5、evelopedAsweknowoxidebreakdownisoneofthemostthreateningfailuremechanismsinintegratedCMOScircuitsBynowtheoxidethicknessisshrinkeddowntoabout10Ainthe65nmtechnologynode,thebreakdowndefinitionitselfisnolongerclearanditsdetec
6、tionbecomesproblematicduetoincleasingquantumtunnelingeffectTherefore,howteducethenoisebackgroundtocatchtheaccuratebreakdownpointandhowtoevaluatethedevicelifetimeforultrathingateoxideisabigchallengeinGOIreliabilitytestSom
7、enovelmethodologyimprovementincludingtestmethodologyimprovementandtestdataanalysisareinvestigatedinthisworkBesidesGOIreliabilityconcernnegativebiastemperatureinstability(NBTI)ofpMOSFEThasbeenindentifiedasacriticallimitin
8、gfactorthatultimatelydeterminesthelifetimeofthedevicesindeepsub—microntechnologyInthiswork,wewillalsodiscusstheNBTItestflowandmodelingAssaturationandselfrecovereffecthavebeenfoundinPMOSFETNBTItest,somenewfasttestmethodsb
9、asedonrecentdevicephysicsresearchhavebeenintroducedFinallywedevelopedOurOwnintegratedreliabilitytestmethodologybasedOllindustrystandardsandOurresearchresultsinGOIandNBTI,whichprovidesthereliabilityassuranceforsemiconduct
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 超深亞微米PMOSFET器件NBTI研究.pdf
- 深亞微米SDEMOS器件結構及可靠性研究.pdf
- 超深亞微米CMOS器件ESD可靠性研究.pdf
- 超深亞微米LDD MOSFET器件模型及熱載流子可靠性研究.pdf
- 超深亞微米CMOS器件GIDL電流及其可靠性研究.pdf
- 深亞微米MOS器件熱載流子可靠性的物理建模.pdf
- 超深亞微米PMOSFET的NBTI效應研究.pdf
- 超深亞微米PMOSFET中的NBTI研究.pdf
- 深亞微米SONOS非易失性存儲器的可靠性研究.pdf
- 超深亞微米集成電路銅互連可靠性研究.pdf
- 無鉛功率器件的若干可靠性問題.pdf
- 超深亞微米銅互連的失效機理與可靠性研究.pdf
- 深亞微米應變硅器件的模擬研究.pdf
- 深亞微米VLSI設計中的信號完整性問題研究.pdf
- 深亞微米N型高壓DDDMOSFET熱載流子注入可靠性研究.pdf
- 超深亞微米MOS器件RTS噪聲研究.pdf
- 深亞微米LDD MOSFET器件熱載流子效應研究.pdf
- 0.25微米以下cmos器件工藝可靠性研究
- 超深亞微米器件的輻照特性研究與建模.pdf
- 超深亞微米集成電路可靠性設計與建模方法.pdf
評論
0/150
提交評論