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文檔簡介
1、本論文介紹了SiGe材料和器件特性、電路相對于Si器件和Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體器件的優(yōu)越性。介紹了SiGe HBT的能帶結構以及Ge的引入對能帶結構的影響,回顧了SiGe HBT的發(fā)展歷史,介紹了發(fā)展的現(xiàn)狀和應用領域。 比較了SiGe HBT和Si BJT常溫和低溫的直流特性、交流特性,介紹了SiGeHBT高頻功率管的設計方法,包括發(fā)射區(qū)設計、基區(qū)設計、集電區(qū)設計、結構布局設計、發(fā)射極窄條寬度和長度設計、發(fā)射區(qū)面積設計和發(fā)射區(qū)窄條
2、間隔設計等。 推導了基于漂移擴散理論的小電流和大電流基區(qū)渡越時間模型,基于能量平衡理論的超薄基區(qū)渡越時間模型,并比較了兩種模型,對于超薄基區(qū),能量平衡模型比漂移擴散模型準確。 對于超薄基區(qū)SiGe(C)HBT,載流子通過基區(qū)時受到很少的碰撞,是非平衡的輸運過程,速度效應明顯,載流子并不是以飽和速度通過BC結耗盡區(qū),而是以大于飽和速度的過沖速度渡越基區(qū)。 介紹了SILVACO公司的工藝模擬模塊ATHENA和器件仿真
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