pvd鍍膜工藝

1、PVD鍍膜工藝PVD鍍膜工藝1.裝飾件材料（底材）(1)金屬。不銹鋼、鋼基合金、鋅基合金等。(2)玻璃、陶瓷。(3)塑料。abs、pvc、pc、sheet、尼龍、水晶等。(4)柔性材料。滌綸膜、pc、紙張、布、泡沫塑料、鋼帶等。2.裝飾膜種類(1)金屬基材裝飾膜層：tin、zrn、tic、crnx、ticn、crcn、ti02、al等。(2)玻璃、陶瓷裝飾膜層：tio2、cr2o3、mgf2、zns等。(3)塑料基材裝飾膜層：ai、cu

2、、ni、si02、ti02、ito、mgf2。(4)柔性材料裝飾膜層：al、lto、ti02、zns等。3.部分金屬基材裝飾膜顏色金屬基材裝飾膜的種類和色調(diào)很多。表1為部分金屬基材裝飾膜的種類及顏色。表1部分金屬基材裝飾膜的種類及顏色膜層種類色調(diào)tinx淺黃、金黃、棕黃、黑色tic淺灰色、深灰色ticxny赤金黃色、玫瑰金色、棕色、紫色tinau金色zrn金黃色zrcxny金色、銀色tio2紫青藍(lán)、綠、黃、橙紅色crnx銀白色tixal

3、nx金黃色、棕色、黑色②鈦轟擊真空度：通人高純度氬氣使真空度保持在2x102pa。脈沖偏壓：400～500v，占空比20%。電弧電流：60～80a，輪換引燃電弧蒸發(fā)源，每個(gè)電弧蒸發(fā)源引燃1～2min。(5)鍍膜①鍍鈦真空度：通人高純度氬氣，真空度保持在2x102pa。脈沖偏壓：200～300v，占空比50%。電弧電流：60～80a，引燃全部弧源，時(shí)間2～3min.②鍍ticn真空度：通人高純度氮?dú)馐拐婵斩缺３衷?3～8)x101pa，然

4、后再逐漸加大c2h2氣體，隨著c2h2氣體量增大，色澤由金黃一赤金黃一玫瑰金一黑色變化?？刂苙2與c2h2兩種氣體的比例可以達(dá)到預(yù)定的色度。電弧電流：50～70a。脈沖偏壓：100～150v，占空比60%～80%。沉積溫度：200℃左右。鍍膜時(shí)間：10～20min，膜層厚度0.2～0.5μm。(6)冷卻鍍膜工序結(jié)束后，首先關(guān)閉電弧電源和偏壓電源，然后關(guān)閉氣源、停轉(zhuǎn)架。工件在真空鍍膜室內(nèi)冷卻至80～100℃時(shí)，向鍍膜室內(nèi)充大氣，取出工件。

5、2)用磁控濺射離子鍍技術(shù)為黃銅電鍍亮鉻的衛(wèi)生潔具鍍制zrn膜。采用基材為鋯的非平衡磁控濺射靶和中頻電源，以及脈沖偏壓電源。(1)抽真空5x103～6.6x1013pa本底真空。加熱溫度應(yīng)在真空室器壁放氣后又回升到100～150℃。2)轟擊清洗真空度：通人氬氣真空度保持在2～3pa。轟擊電壓：800～1000v，脈沖占空比20%。轟擊時(shí)間：10min。(3)鍍膜①沉積鋯底層真空度：通入氬氣，真空度保持在sxlo1pa。靶電壓：400—55