固態(tài)氫基質(zhì)隔離分子高分辨光譜裝置和部分應(yīng)用.pdf

1、基質(zhì)隔離光譜技術(shù)的歷史可以追溯到上個(gè)世紀(jì)40年代，在50年代成為研究化學(xué)反應(yīng)的一種重要手段。并且在隨后的幾十年里，不同基質(zhì)的使用(N2、H2、惰性氣體等)隔離光譜技術(shù)被廣泛地應(yīng)用于研究分子之間的相互作用、反應(yīng)的中間態(tài)及產(chǎn)物等。而固態(tài)氫基質(zhì)，由于其獨(dú)特的量子固體特性，受到了越來越多的關(guān)注。
　　 本論文的工作主要是：搭建了一套低溫基質(zhì)隔離紅外吸收光譜裝置，并且使用轉(zhuǎn)化裝置將普通氫氣轉(zhuǎn)化為高純的仲氫。利用該實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)，測量了氧化亞氮(

2、N2O)和二氧化碳(CO2)在氫基質(zhì)和氖基質(zhì)中的光譜，并對其中的一些光譜現(xiàn)象進(jìn)行了解釋。
　　 以下是本論文各章節(jié)的內(nèi)容安排：
　　 第一章主要介紹了作者所使用技術(shù)的歷史背景、發(fā)展情況和相關(guān)的原理特性。主要介紹了本論文工作相關(guān)的三種技術(shù)：低溫基質(zhì)隔離技術(shù)、傅里葉變換光譜技術(shù)以及差頻光譜技術(shù)。
　　 第二章詳細(xì)介紹本實(shí)驗(yàn)室搭建的低溫基質(zhì)隔離紅外吸收光譜測量裝置，以及仲氫轉(zhuǎn)化裝置。并介紹了氫晶體的光譜測量，以及如何利