我國專利集中度測度指標(biāo)研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、進(jìn)入21世紀(jì)后,隨著經(jīng)濟(jì)全球化、知識分散化、技術(shù)融合化速度加快,企業(yè)對創(chuàng)新速度的要求越來越高,企業(yè)僅靠內(nèi)部研發(fā)已經(jīng)不能滿足市場競爭和經(jīng)濟(jì)增長的需求,于是開放式創(chuàng)新模式應(yīng)運(yùn)而生。當(dāng)這種開放式創(chuàng)新模式席卷全球的時候,雖然中國知識產(chǎn)權(quán)理論已日趨完善,但知識產(chǎn)權(quán)實(shí)務(wù)的發(fā)展遇到了前所未有的困難,即在專利叢林多如繁星的今天,如何衡量某個技術(shù)領(lǐng)域或行業(yè)內(nèi)所有專利分布情況。為了解決這一難題,本文志在通過理論和多次實(shí)證分析篩選出一套可能適用于專利領(lǐng)域中的

2、集中度測度指標(biāo),通過這些專利集中度測度指標(biāo)就能在一定程度上有效地衡量某技術(shù)領(lǐng)域或行業(yè)內(nèi)專利集中程度。
  在現(xiàn)有研究的基礎(chǔ)上,筆者分別從國外相關(guān)研究和產(chǎn)業(yè)組織學(xué)領(lǐng)域中借鑒了一系列專利集中度測度指標(biāo)。并且本文進(jìn)行了三次實(shí)證分析,分別是我國各地區(qū)專利集中、我國前50位高校專利集中情況以及美國基因芯片技術(shù)專利集中實(shí)證分析,通過這三次實(shí)證分析篩選出了一系列適于應(yīng)用在專利領(lǐng)域中的集中度測度指標(biāo)。另外,本文的創(chuàng)新之處在于,通過實(shí)證分析找到了一

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