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文檔簡介
1、本文采用對比試驗和正交試驗等方法系統(tǒng)地研究了低、中、高三種不同鉻酐濃度的鍍鉻液組成和鍍鉻工藝對鍍鉻層性能的影響,找到了影響鍍層光亮度、鍍液電流效率、分散能力和沉積速度的主要因素及其相互關(guān)系。這對提高電鍍質(zhì)量、節(jié)約電能、減輕環(huán)境污染有著較大的現(xiàn)實意義。通過電化學方法、金相組織分析、重量法、斑點法、彎曲法等試驗方法研究指出:添加劑對鍍層質(zhì)量起著至關(guān)重要的作用,但不同類型的添加劑對鍍液和鍍層性能的影響并不相同,同一添加劑在不同鍍液中所起作用亦
2、有差異,各種鍍液對添加劑具有選擇性。有機添加劑的作用效果優(yōu)于無機添加劑。采用適當?shù)奶砑觿秃喜粌H可以顯著提高鍍鉻層質(zhì)量,增加光亮度、電流效率、分散能力和沉積速度,而且可以擴大鍍鉻工藝范圍。單純的無機添加劑復合對改善鍍層質(zhì)量的作用要小于有機—有機復合以及有機—無機復合的作用。稀土對鍍層質(zhì)量影響較大,尤其是在高溫中等電流密度時,可大大改善鍍層的綜合性能,而稀土與有機添加劑復合可彌補單一添加稀土的不足。這一研究成果為復合添加劑的研制提供了理論
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