spc與制程能力評(píng)估

1、QIT培訓(xùn)系列教材-----SPC,Prepare by : Robin MuQS Section, QS Division, IPT July 24th, 2007,,教材編號(hào):IPT-M2XXX版本:V1.0版,,,會(huì)簽單位,,核準(zhǔn): 部級(jí)主管 擬制人: Robin Mu,Prepared byRobin Mu,Page 3,,1.教材初版,修訂紀(jì)錄,,Prepared byRobin Mu,P

2、age 4,目 錄,Item,No.,Page,,Link,,,,,,1. 基礎(chǔ)理論2. 統(tǒng)計(jì)基礎(chǔ)知識(shí) 3. 制程變異的原因 4. 制程能力分析

3、 5. SPC的工具---管制圖 6. SPC的運(yùn)作流程,51224305484,Prepared byRobin Mu,Page 5,,1.1. 品質(zhì)過程與不良率之演進(jìn),1. 基礎(chǔ)理論,Prepared byRobin Mu,Page 6,常規(guī)管制方法----檢驗(yàn),1.2. 傳統(tǒng)品質(zhì)

4、觀念與目前品質(zhì)觀念的差別,Prepared byRobin Mu,Page 7,當(dāng)一個(gè)設(shè)備由100個(gè)部件組成，即使每一個(gè)部件的合格率爲(wèi)99.97%，設(shè)備的合格率也僅爲(wèi)99.97%×????×99.97%=76.31%當(dāng)該設(shè)備由500個(gè)部件組成，則該設(shè)備的合格率僅爲(wèi)25.83%,99.97%的合格率是否足夠?,每一個(gè)部件的合格率均爲(wèi)99.97%,Prepared byRobin Mu,Page 8,,,,下限,上

5、限,,,無缺陷,門柱思維,傳統(tǒng)的品質(zhì)概念,Prepared byRobin Mu,Page 9,Prepared byRobin Mu,Page 10,1.3.1. 1924年Walter Shewhart博士在貝爾實(shí)驗(yàn)室開發(fā)了一套 統(tǒng)計(jì)學(xué)流程控制理論;1.3.2. 上世紀(jì)20年代期間, Shewhart博士在一系列演講中提出 了他的理論, 并在高品質(zhì)制造產(chǎn)品的經(jīng)濟(jì)性控制一書中

6、 發(fā)表(1931);1.3.3. 1939年Shewhart與戴明合寫了“品質(zhì)觀點(diǎn)的統(tǒng)計(jì)方法”;1.3.4. 上世紀(jì)40年代期間, 戰(zhàn)時(shí)生產(chǎn)使該理論得到廣泛的應(yīng)用;1.3.5. 1950年戴明到日本講學(xué), 介紹SQC觀念及方法, SQC是 發(fā)現(xiàn)問題才解決, 浪費(fèi)較大, 後來發(fā)展出了SPC;1.3.6. 美國汽車業(yè)廠商對(duì)SPC非常重視, 並使之得到廣泛應(yīng)用;1.3.7. ISO9000也十分重視SPC的

7、應(yīng)用, 對(duì)其有專門章節(jié)要求.,1.3. SPC的歷史,Prepared byRobin Mu,Page 11,1.4. SPC的定義,統(tǒng)計(jì)過程控制(SPC)是基於統(tǒng)計(jì)原理, 利用圖形技術(shù), 對(duì) 流程中關(guān)鍵(質(zhì)量)特性進(jìn)行監(jiān)控, 並通過判定準(zhǔn)則, 及時(shí)顯示 異常, 從而達(dá)到發(fā)現(xiàn)問題、預(yù)防不良產(chǎn)生的一種管理工具. SPC能夠?qū)⒑Ａ繑?shù)據(jù)中的異常通過圖形直觀展現(xiàn)出來, 適用

8、於各種須投入大量資源, 要長(zhǎng)期管控的流程或特性. SPC有以下作用: A. 確保制程持續(xù)穩(wěn)定、可預(yù)測(cè); B. 提高產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)能力、降低成本; C. 為制程分析提供依據(jù); D. 區(qū)分變差的特殊原因和普通原因, 作為采取局部措施 或?qū)ο到y(tǒng)采取措施的指南.

9、,,Prepared byRobin Mu,Page 12,,2. 統(tǒng)計(jì)基礎(chǔ)知識(shí),2.1. 正態(tài)分布,Prepared byRobin Mu,Page 13,測(cè)定的平均值(x)與群體平均值(µ)一致; 曲線的最高點(diǎn)與橫軸垂直相交處, 即為群體平均值(µ)以此點(diǎn)為中心, 其曲線左右兩邊對(duì)稱;C. 正態(tài)分布左右兩尾與橫軸漸漸靠近, 但不與橫軸相交;D. 曲線下橫軸上之面積等於“1”, 曲線下橫

10、軸上之面積分布情況為:　 (µ-σ)至(µ＋σ)範(fàn)圍內(nèi)的面積約占總面積的68.27%; (µ-2σ)至(µ＋2σ)範(fàn)圍內(nèi)的面積約總占面積的95.45%; (µ-3σ)至(µ＋3σ)範(fàn)圍內(nèi)的面積約占總面積的99.73%.,Prepared byRobin Mu,Page 14,2.2. 數(shù)據(jù)的類別,2.2.1. 連續(xù)型數(shù)據(jù),Prepared byR

11、obin Mu,Page 15,2.2.2. 離散型數(shù)據(jù),Prepared byRobin Mu,Page 16,“母體”是指組成某一特定群體的全部單位, 有時(shí)母體大到 無法測(cè)量. “樣本”是指該特定母體中的某些單位, 要求母體中的每一個(gè) 單位都有同等機(jī)會(huì)被用來測(cè)量, 即樣本必須是隨機(jī)的.,2.3.1. 母體vs樣本,2.3. 抽樣,Prepared byRobin Mu,Page 17,隨機(jī)抽樣: 每個(gè)均有被選上的

12、相等機(jī)會(huì),2.3.2. 抽樣方法,Prepared byRobin Mu,Page 18,這樣不是隨機(jī)抽樣!!!,Prepared byRobin Mu,Page 19,層別式抽樣: 母體被“層別”成幾個(gè)組, 在每個(gè)組內(nèi)隨機(jī)選擇.,Prepared byRobin Mu,Page 20,系統(tǒng)隨機(jī)抽樣: 每隔n個(gè)抽取一個(gè)樣本.,Prepared byRobin Mu,Page 21,行進(jìn)中的過程,,分組抽樣: 每小時(shí)在該點(diǎn)抽3個(gè)樣

13、本.,Prepared byRobin Mu,Page 22,計(jì)數(shù)數(shù)據(jù): 一般情況下取50~100個(gè)計(jì)量數(shù)據(jù): 每個(gè)分組最少30個(gè),2.3.3. 抽樣的一般準(zhǔn)則,Prepared byRobin Mu,Page 23,2.4. SPC相關(guān)術(shù)語,2.4.1 Xi: 實(shí)測(cè)數(shù)據(jù), X1…X5 是指一個(gè)樣組中的5個(gè)實(shí)測(cè)數(shù)據(jù);2.4.2 Xbar: 表示n個(gè)數(shù)據(jù)的平均值, 即: Xbar=(X1…+Xn)/n;2.4.3 T: 表

14、示公差值, 即: 公差值=規(guī)格最大值–規(guī)格最小值 (T=USL–LSL);2.4.4 μ: 表示規(guī)格中心值;2.4.5 R: 極差值, 即:極差值=樣組中之最大值–樣組中最小值;2.4.6 Rm: 表示樣組之極差值, 即: 第二組Rm值=第二組X值 –第一組X值, 依此類推;2.4.7 Cpk: 表示制程能力指數(shù);2.4.8 S: 樣本標(biāo)準(zhǔn)差.,,Prepared byRob

15、in Mu,Page 24,,3. 制程變異的原因,普通原因: 是造成隨著時(shí)間推移具有穩(wěn)定的且可重復(fù)的分布 過程中的許多變差的原因, 我們稱之為“處于統(tǒng)計(jì)控制狀態(tài)”、 “受統(tǒng)計(jì)控制”, 或有時(shí)簡(jiǎn)稱“受控”, 普通原因表現(xiàn)為一個(gè)穩(wěn)定 系統(tǒng)的偶然原因. 只有變差的普通原因存在且不改變時(shí), 過 程的輸出才可以預(yù)測(cè).特殊原因: 是造成不是始終作用于過程變差的原因, 即當(dāng)它們 出現(xiàn)時(shí)將造成過程的分布改變. 除非所有

16、的特殊原因都被查 找出來并且采取了措施, 否則它們將繼續(xù)用不可預(yù)測(cè)的方式 來影響過程的輸出. 如果系統(tǒng)內(nèi)存在變差的特殊原因, 隨時(shí)間 的推移, 過程的輸出將不穩(wěn)定.,Prepared byRobin Mu,Page 25,Prepared byRobin Mu,Page 26,Prepared byRobin Mu,Page 27,Prepared byRobin Mu,Page 28,,,,,,,局部措施和系

17、統(tǒng)措施,局部措施通常用來消除變差的特殊原因通常由與過程直接相關(guān)的人員實(shí)施大約可糾正15%的過程問題對(duì)系統(tǒng)采取措施通常用來消除變差的普通原因幾乎總是要求管理措施，以便糾正大約可糾正85%的過程問題,Prepared byRobin Mu,Page 29,局部措施、系統(tǒng)措施示意圖,解決普通原因的系統(tǒng)措施,解決異常原因的局部措施,解決異常原因的局部措施,,Prepared byRobin Mu,Page 30,制程能

18、力是工序在管制狀態(tài)時(shí), 其工序生產(chǎn)的產(chǎn)品品質(zhì)變化有多少程度的值, 或指在管制狀態(tài)(穩(wěn)定狀態(tài))下, 工序能制造出來的品質(zhì)水平的程度.而制程能力分析是指針對(duì)一個(gè)過程, 在滿足顧客的期望上,表現(xiàn)得有多好的一種研究.,4. 制程能力分析,4.1 制程能力的定義,,Prepared byRobin Mu,Page 31,短期制程能力 短期制程能力是隻存在偶然原因時(shí)的制程能力, 表示取樣 數(shù)據(jù)都具有同樣的品質(zhì)特性, 但有主要技術(shù)要

19、素引起品質(zhì) 特性變化, 因此品質(zhì)特性變化越大, 散布也就越大, 短期 制程能力也就越差. 長(zhǎng)期制程能力 長(zhǎng)期制程能力是包括組內(nèi)誤差和組間誤差, 為了改善技術(shù) 和工序管理, 必須判斷工序是否穩(wěn)定時(shí), 用長(zhǎng)期制程能力 的特性來取樣, 來確認(rèn)包括管理要素引起的變化和技術(shù)的 要素引起的變化.,Prepared byRobin Mu,Page 32,制程能力隨時(shí)間的延續(xù),平均值及分布形狀產(chǎn)生變化稱為偏移/

20、漂移現(xiàn)象.,偏移是制程的突然變化.漂移是制程隨時(shí)間緩慢發(fā)生的變化.,Prepared byRobin Mu,Page 33,收集過程數(shù)據(jù)是為了對(duì)過程進(jìn)行分析和研究, 並為最終進(jìn)行 過程改善做好準(zhǔn)備. 如何收集數(shù)據(jù)才能保証所收集的數(shù)據(jù)能 代表整個(gè)過程的現(xiàn)狀、並保証過程的短期和長(zhǎng)期能力都能夠 被評(píng)估? 合理分組是收集數(shù)據(jù)的一種策略, 通過合理分組可區(qū)分短期 和長(zhǎng)期誤差

21、, 從而可以確認(rèn)過程目前的問題是技術(shù)實(shí)力不夠 (Zst太小), 還是控制水平差(Zst與Zlt差異太大),4.2.1 合理分組(Rational Subgroups)的目的,4.2 數(shù)據(jù)收集策略,在收集過程數(shù)據(jù)時(shí), 我們一般會(huì)收集較長(zhǎng)時(shí)間范圍內(nèi)的很多 組數(shù)據(jù)(因?yàn)閿?shù)據(jù)收集太少, 不能把握過程的現(xiàn)狀全貌). 收集數(shù)據(jù)時(shí), 要求每組內(nèi)的數(shù)據(jù)隻包含偶然原因誤差, 組與組 之間存在異

22、常原因誤差和偶然原因誤差, 這樣收集的數(shù)據(jù)可 對(duì)過程的長(zhǎng)期能力和短期能力分別作出評(píng)估.,4.2.2 組內(nèi)誤差和組間誤差,Prepared byRobin Mu,Page 34,,組內(nèi)誤差和組間誤差,,,,,,,,,,,Process Response,Time,,,,,,組間誤差,,,,,組內(nèi)誤差,,,,,,,,Rational Subgroups,Prepared byRobin Mu,Page 35,合理分組的步

23、驟如下： A. 首先確定可能影響CTQ的各種輸入變量(應(yīng)從生產(chǎn)班次、 操作員、材料、方法、設(shè)備等方面考慮); B. 從以上輸入變量中選出可能會(huì)對(duì)CTQ產(chǎn)生重大影響的 幾個(gè)因素; C. 制定抽樣計(jì)劃, 確保每個(gè)數(shù)據(jù)組中隻有偶然原因誤差, 每 組取樣2~5個(gè), 組內(nèi)樣本盡短時(shí)間內(nèi)收集; D. 測(cè)量樣本並記錄數(shù)據(jù), 為後續(xù)分析做好準(zhǔn)備; E. 收集的數(shù)據(jù)組別要足夠多.,4.2.3

24、如何進(jìn)行合理分組,Prepared byRobin Mu,Page 36,目標(biāo)值(Target) 每一種可量測(cè)的特性, 都會(huì)有一個(gè)想要的績(jī)效水準(zhǔn), 就是 通常所說的目標(biāo)值. 例如: 體溫------- 36.8℃ 上班時(shí)間-------- 8:00 a.m.,4.3.1 基本術(shù)語及定義,4.3 連續(xù)型數(shù)據(jù)分析,規(guī)格界限(上限/下限)(Specification Limits) 很多過程活動(dòng)與

25、過程結(jié)果有一個(gè)規(guī)格范圍, 該范圍提供允 許超出或低於績(jī)效目標(biāo)值的界限. 例如: LSL 目標(biāo)值 USL 體溫 36.5 ℃ 36.8 ℃ 37.3 ℃ 上班時(shí)間 6:30a.m. 8:00a.m. 8:02a.m.,Prepared byRobin

26、 Mu,Page 37,平均數(shù)(Mean): 一組數(shù)據(jù)的平均值, 通常以“ ”表示. 例如: 體溫 36.7 36.9 37.3 37.1 37.2 36.8 37.0 平均值=37.0偏差(Deviation): 指某個(gè)特定量測(cè)值與所有量測(cè)值平均數(shù)之間的距離.,並非所有的量測(cè)結(jié)果與目標(biāo)值都是一致的, 此現(xiàn)象稱為變異, 並非所有的變異都是不符合要求

27、的, 某個(gè)變異雖然偏離目標(biāo), 但仍是符合規(guī)格要求的.,Prepared byRobin Mu,Page 38,標(biāo)準(zhǔn)偏差(Standard Deviation): 指整個(gè)數(shù)據(jù)組的整體離差.,Prepared byRobin Mu,Page 39,缺點(diǎn)率: 根據(jù)目標(biāo)值, 規(guī)格上/下限繪制某一過程量測(cè)結(jié)果的分布 曲線時(shí), 一些量測(cè)結(jié)果會(huì)超出規(guī)格界限. 位於曲線以下但 超出規(guī)格上/下限范圍的數(shù)據(jù)所佔(zhàn)的比例或百分比.

28、,Prepared byRobin Mu,Page 40,Cp是衡量制程潛在能力的一個(gè)指數(shù), 它未考慮到制程輸出平均值的偏移, 隻考慮制程輸出分布的離散程度與制程規(guī)格的比較結(jié)果. 計(jì)算公式如下:Cp反映了一個(gè)過程的潛在能力, 它假設(shè)過程均值與規(guī)格中心值完全重合. CP值越大, 表明制程能力越高.,,Cp=,,,,USL-LSL,6σst,USL=規(guī)格上限LSL=規(guī)格下限σst=短期標(biāo)準(zhǔn)差,4.3.2 衡量短期制程能

29、力的指數(shù),Prepared byRobin Mu,Page 41,,Cpk是衡量制程實(shí)際能力的一個(gè)指數(shù), 它考慮了制程輸出平均值的偏移, 計(jì)算公式如下：,T=(USL-LSL)/2,,Cpk=(1-K)Cp =(1-K),,,,USL-LSL,6σst,,K=,,,,T -X,USL-LSL,,2,Cpk= (1-ICaI)*Cp,單側(cè)下限制程能力指數(shù),單側(cè)上限制程能力指數(shù),,,,Prepared byRobin M

30、u,Page 42,準(zhǔn)確度Ca,精確度Cp,精密度CPk,Ca/Cp/CPk之間的概念關(guān)係,Cpk=Cp(1-ICaI),Prepared byRobin Mu,Page 43,例: 一批軸承, 抽樣量測(cè)尺寸如下: 10.52 10.53 10.48 10.47 10.49 10.50 10.48 10.52 1

31、0.51 10.48 10.50 10.50 10.51 10.49 10.50 10.52 10.50 10.49 10.48 10.49 10.50 10.51 10.48 10.48 10.50 1

32、). 若Spec 10.50±0.05, 則Cpk為多少？ 2). 若Spec 10.55Max, 則Cpk為多少?解: 1). 2).,Prepared byRobin Mu,Page 44,4.3.3 衡量長(zhǎng)期制程能力的指數(shù),,Pp/Ppk 計(jì)算公式如下：,,Pp=,,,,USL-LSL,6σlt,USL=規(guī)格上限LSL=規(guī)格下限σlt =長(zhǎng)期標(biāo)準(zhǔn)差,,Ppk=,,,

33、,USL LSL,3σlt,- X,_,Prepared byRobin Mu,Page 45,,4.3.4 制程能力指數(shù)分析 A. 當(dāng)實(shí)際中心值等於規(guī)格中心值時(shí), Cpk=Cp, 當(dāng)實(shí)際中心值 不等於規(guī)格中心值時(shí), Cpk<Cp; B. 當(dāng)Cp及Cpk都較小且二者差別不大時(shí)(如Cp=0.72, Cpk= 0.69), 說明主要問題是σ 太大, 改進(jìn)應(yīng)首先著眼於降低制

34、 程波動(dòng); C. 若Cp較大, 而Cpk很小(如Cp=1.43, Cpk=0.72), 說明主要 問題是實(shí)績(jī)中心值偏離規(guī)格中心值太多, 應(yīng)首先著眼於移 動(dòng)實(shí)際中心值, 使之更接近規(guī)格中心值; D. 如果Cp本不夠好, Cpk更小, (如Cp=0.84, Cpk=0.35), 兩者 差異較大, 說明σ及實(shí)際中心值都有問題, 通常改進(jìn)制程應(yīng)

35、 首先移動(dòng)實(shí)績(jī)中心值, 使之更接近規(guī)格中心值, 然後設(shè)法 降低制程波動(dòng). 總之, 不要單獨(dú)使用這兩個(gè)之中的一個(gè).,Prepared byRobin Mu,Page 46,為一般通則, 隨產(chǎn)業(yè)品質(zhì)水準(zhǔn)進(jìn)步本表亦有所變更.,4.3.5 制程能力指數(shù)評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn),Prepared byRobin Mu,Page 47,,,,USL=160,X-Bar,μ= 100,σ,Z=,,,,USL-μ,160-100

36、,20,=,= 3.0,From Z table, for Z=3.0 , P(defect)= 0.00135,僅有單側(cè)上規(guī)格限,4.3.6 Sigma水準(zhǔn)---Z,Prepared byRobin Mu,Page 48,,,,USL=160,μ = 110,P(defect)= 0.0061+ 0.000233=0.00644,雙側(cè)規(guī)格限,,LSL=40,From Z table, for P(defect)= 0.00644,

37、Z=2.487,,Prepared byRobin Mu,Page 49,4.3.7 長(zhǎng)期Zlt,Prepared byRobin Mu,Page 50,Prepared byRobin Mu,Page 51,Prepared byRobin Mu,Page 52,單位(N--Unit)缺點(diǎn)(D--Defect)機(jī)會(huì)(O--Opportunity)每百萬個(gè)機(jī)會(huì)的缺點(diǎn)數(shù)(DPMO),4.4.1 基本術(shù)語及定義,4.4 離散型

38、數(shù)據(jù)分析,Prepared byRobin Mu,Page 53,以Z值換算表將DPMO轉(zhuǎn)換成σ值,不良率為37.5%, 查表可得知, Zst為0.32.,4.4.2 制程能力分析,,Prepared byRobin Mu,Page 54,,5. SPC的工具---管制圖,5.1. 管制圖的原理,,μ — Meanσ— Standard deviation,X — averageS — Sample stand deviatio

39、n,Population總體N,Sample樣 本n,,,,,,,,,,,直方圖,正態(tài)分布圖,n>30時(shí),直方圖 ? 正態(tài)分布圖 ? 管制圖,一種以實(shí)際產(chǎn)品品質(zhì)特性與根據(jù)過去經(jīng)驗(yàn)所判明的制程能力的管制界限比較,而以時(shí)間順序用圖形表示者.,Prepared byRobin Mu,Page 55,,,,解析,+3s,-3s,u,-3s,管制,+3s,u,,,UCL,CL,LCL,,,,Prepared byRo

40、bin Mu,Page 56,Prepared byRobin Mu,Page 57,,5.2. 管制圖的種類,,均值—中位數(shù)管制圖均值—極差管制圖均值—標(biāo)準(zhǔn)差管制圖單值—移動(dòng)極差管制圖不合格品率管制圖不合格品數(shù)管制圖缺陷數(shù)管制圖單位缺陷數(shù)管制圖,Prepared byRobin Mu,Page 58,,Prepared byRobin Mu,Page 59,5.2.1 均值—極差管制圖 均值—極差管制圖

41、是一種計(jì)量值管制圖, 控制物件的資料 全部來自連續(xù)型資料. 優(yōu)點(diǎn): 資料搜集量小, 計(jì)算方便; 缺點(diǎn): 隨著樣本容量的增大, 效率降低. 中心線和控制限:,Prepared byRobin Mu,Page 60,Prepared byRobin Mu,Page 61,5.2.2 均值—標(biāo)準(zhǔn)差管制圖

42、 中心線和控制限:,Prepared byRobin Mu,Page 62,Prepared byRobin Mu,Page 63,5.2.3 單值—移動(dòng)極差管制圖 單值—移動(dòng)極差管制圖也是一種計(jì)量值管制圖, 控制物件的 資料主要來自於那些破壞性實(shí)驗(yàn)或無須大量抽查的實(shí)驗(yàn). 優(yōu)點(diǎn): 資料搜集量小, 計(jì)算方便 缺點(diǎn): 靈敏度較差 中心線和控制限:,MR圖,X圖,（視為

43、0）,Prepared byRobin Mu,Page 64,Prepared byRobin Mu,Page 65,5.2.4 不合格品率管制圖 中心線和控制限:,其中, 若LCL<0, 令LCL=0.,Prepared byRobin Mu,Page 66,Prepared byRobin Mu,Page 67,5.2.5 不合格品數(shù)管制圖 不合格品數(shù)管制圖同不合格品率控制圖一樣是

44、一種計(jì)數(shù) 型管制圖, 在原理上兩者並無差別, 但在一些細(xì)節(jié)上兩者 還是存在某種差異, 不合格品數(shù)控製圖樣本大小必須為定 值, 而不合格品率控制圖中樣本大小可以不等. 中心線和控制限:,其中, 若LCL<0, 令LCL=0,Prepared byRobin Mu,Page 68,Prepared byRobin Mu,Page 69,5.2.6 缺陷

45、數(shù)管制圖 缺陷數(shù)管制圖是用來控制產(chǎn)品上疵點(diǎn)或缺陷數(shù)目的管制 圖, 同前面兩節(jié)所介紹的一樣都屬於計(jì)數(shù)型管制圖. 中心線和控制限:,,,,缺陷,其中, 若LCL<0, 令LCL=0,Prepared byRobin Mu,Page 70,Prepared byRobin Mu,Page 71,5.2.7 單位缺陷數(shù)管制圖 單位缺陷數(shù)管制圖同缺陷數(shù)管制圖

46、一樣都屬於計(jì)數(shù)型管 制圖, 它與缺陷數(shù)控製圖的區(qū)別是, 缺陷數(shù)控製圖中樣本 量必須相同, 而單位缺陷數(shù)控製圖中樣本量可以不同. 中心線和控制限:,其中, 若LCL<0, 令LCL=0,Prepared byRobin Mu,Page 72,Prepared byRobin Mu,Page 73,計(jì)數(shù)值,,,不良數(shù)或缺點(diǎn)數(shù),n是否一定,單位大

47、小是否一定,,不良率,缺點(diǎn)數(shù),單位缺點(diǎn),,不良數(shù),,,,,,,數(shù)據(jù)性質(zhì),計(jì)量值,單點(diǎn)-移動(dòng)全距,中位數(shù)-全距,,,n>1,,N,中心線性質(zhì),Y,n >9,平均值-標(biāo)準(zhǔn)差,平均值,中位數(shù),n=2~9,平均值-全距,,,,,,,,Y,不良數(shù),缺點(diǎn)數(shù),5.3. 管制圖類型的選擇,Y,N,Y,N,Prepared byRobin Mu,Page 74,EXCEL版控制圖,Prepared byRobin Mu,Page

48、75,有1點(diǎn)在A區(qū)以外者.(口訣:1A外),5.4. 管制圖判讀原則,Prepared byRobin Mu,Page 76,連續(xù)9點(diǎn)在單側(cè).(口訣:9單側(cè)),Prepared byRobin Mu,Page 77,連續(xù)6點(diǎn)持續(xù)的上升或下降.(口訣:6升6降),Prepared byRobin Mu,Page 78,連續(xù)6點(diǎn)持續(xù)的上升或下降.(口訣:6升6降),Prepared byRobin Mu,Page 79,連續(xù)14點(diǎn)交

49、互著一升一降者.(口訣:14升降),Prepared byRobin Mu,Page 80,3點(diǎn)中有2點(diǎn)在A區(qū)或A區(qū)以外者.(口訣:3分之2A),Prepared byRobin Mu,Page 81,5點(diǎn)中有4點(diǎn)在B區(qū)或B區(qū)以外者.(口訣:5分之4B),Prepared byRobin Mu,Page 82,連續(xù)15點(diǎn)在中心線上下兩側(cè)之C區(qū)者.(口訣:15 C),Prepared byRobin Mu,Page 83,有8點(diǎn)在

50、中心線之兩側(cè),但C區(qū)並無點(diǎn)子者.(口訣:8缺C),,Prepared byRobin Mu,Page 84,6. SPC的運(yùn)作流程,6.1. 運(yùn)作流程圖,,Prepared byRobin Mu,Page 85,6.2.1. 基本條件: A. 基礎(chǔ)管理比較扎

51、實(shí) B. 生產(chǎn)過程比較穩(wěn)定 C. 員工應(yīng)接受過統(tǒng)計(jì)技術(shù)的系統(tǒng)培訓(xùn) D. 具備統(tǒng)計(jì)技術(shù)應(yīng)用所需的技術(shù)、資源條件6.2.2. 應(yīng)用條件: A. 控制對(duì)象可以是質(zhì)量特性、質(zhì)量指標(biāo)或參數(shù) B. 控制對(duì)象應(yīng)定量描述並具有分布的可重複性6.2.3. 控制對(duì)象: A. 重要性: 選擇關(guān)鍵項(xiàng)目 B. 單一性: 每個(gè)管制圖管控一項(xiàng)目6.2.4. 取樣方法: A. 一定要隨機(jī)取樣

52、 B. 按確定的時(shí)間間隔取樣 C. 樣本大小應(yīng)保證管制圖有適宜的檢出力 D. 解析用管制圖取樣組數(shù)應(yīng)大于或等于25組,6.2. 運(yùn)作前應(yīng)考慮的問題,Prepared byRobin Mu,Page 86,6.3.1. 建立解析用管制圖,A. 收集數(shù)據(jù): 選擇管制特性X, 決定樣本大小n及抽樣間隔, 樣本組數(shù)k; A.1. 選擇管制特性

53、X A.1.1. 能量測(cè)的產(chǎn)品或制程特性; A.1.2. 與客戶使用及生產(chǎn)關(guān)系重大之特性; A.1.3. 與下道制程影響較大之特性; A.1.4. 關(guān)鍵制程之特性. A.2. 決定樣本大小n及抽樣間隔 A.2.1 樣本大小n約在2~5個(gè)之間, 不宜太大; A.2.2 同一組之?dāng)?shù)據(jù)應(yīng)在同一生產(chǎn)條件及短時(shí)間內(nèi)取樣;,6.3. Xbar-R管制圖運(yùn)作流程,Prepa

54、red byRobin Mu,Page 87,A.2.3 初期解析之制程宜在較小的間隔連續(xù)取樣, 管制狀態(tài)下 之制程可加長(zhǎng)其間隔, 對(duì)正在生產(chǎn)產(chǎn)品之監(jiān)視, 可以每班 兩次、每小時(shí)一次或其它可行的抽樣頻率. 除客戶要求 及另有規(guī)定外, 可參照下表執(zhí)行: A.2.4 每組樣本可識(shí)別日期、時(shí)間、機(jī)臺(tái)號(hào)、原材料或Lot No. A.3 決定樣本組數(shù)

55、k(以保証制程之主要變異有機(jī)會(huì)出現(xiàn)為原則) 一般以25組以上的樣本及100個(gè)以上的數(shù)據(jù)以檢驗(yàn)制程之穩(wěn) 定及估計(jì)制程特性的平均值與標(biāo)準(zhǔn)差;,Prepared byRobin Mu,Page 88,B. 記錄數(shù)據(jù)及計(jì)算各組平均值 及極差Ri, 總平均值 及,管制中心線管制上限管制下限,管制圖,管制中心線管制上限管制下限,R管制圖,C. 計(jì)算管制界限,Prepared byRob

56、in Mu,Page 89,公式中D4﹑D3﹑A2為隨樣本數(shù)n變化而改變的常數(shù),Prepared byRobin Mu,Page 90,,,,D. 繪制管制界限及描點(diǎn) D.1 決定管制圖之座標(biāo)尺寸 D.1.1 兩管制圖之座標(biāo)尺寸分開制訂; D.1.2 中心線置於縱座標(biāo)之中心位置上; D.1.3 管制上下界限約於座標(biāo)之2/3~3/4位置上; D.1.4 決定一格的大小及座標(biāo)之尺寸.

57、 對(duì)於X_bar圖, 座標(biāo)上之每格刻度值應(yīng)至少為樣本均值之 最大值與最少值差值的2倍; 對(duì)於R圖, 應(yīng)從最低值為0開始到最大值間差值為初始階 段的最大極差(R)的2倍. D.2 依管制界限及各組及極差Ri之大小描繪於管制圖上 D.2.1 中心線以實(shí)線描繪, 管制界線以紅色虛線描繪; D.2.2 依各組之統(tǒng)計(jì)量大小描點(diǎn)於管制圖上;

58、D.2.3 將各點(diǎn)以實(shí)線連接.,Prepared byRobin Mu,Page 91,E. 解析制程 E.1 解析R管制圖 組內(nèi)樣本間的變異估計(jì)值, 決定各組及平均值間的變異 程度, 故R管制圖的穩(wěn)定性 須先解析.,E.1.1 有點(diǎn)超過管制上限 I. 管制界限計(jì)算錯(cuò)誤或描點(diǎn)錯(cuò)誤; II. 組內(nèi)變異或?qū)嶋H制程變異, 在某時(shí)變大或趨勢(shì)性變大; I

59、II.量測(cè)系統(tǒng)曾經(jīng)變更(如不同的檢驗(yàn)人員或量具)或量測(cè) 系統(tǒng)沒有足夠的分辨率 ; 有點(diǎn)低於管制下限 I. 管制界限計(jì)算錯(cuò)誤或描點(diǎn)錯(cuò)誤; II. 實(shí)際制程變小(變好), 應(yīng)調(diào)查後推廣; III. 量測(cè)量測(cè)系統(tǒng)曾經(jīng)變更(含數(shù)據(jù)已被編輯或改變).,一點(diǎn)超出管制界限.,Prepared byRobin Mu,Page 92,連續(xù) 7 點(diǎn)遞增或遞減.,連續(xù) 9 點(diǎn)

60、出現(xiàn)在中心線的同一側(cè).,E.1.2 有連續(xù)的點(diǎn)出現(xiàn) 有連續(xù)9個(gè)點(diǎn)出現(xiàn)在中心線的一側(cè)或連續(xù)6個(gè)點(diǎn)上升(或下降) 若連續(xù)9點(diǎn)出現(xiàn)在上側(cè)或連續(xù)6個(gè)點(diǎn)上升 I. 不規(guī)則的原因造成較大的數(shù)據(jù)變異. 如設(shè)備的故障或固定 鬆動(dòng), 或單一制程條件的改變, 或使用新的(或不均勻的) 原物料批. 這些問題必須即時(shí)糾正; II. 量測(cè)系統(tǒng)變更, 如檢驗(yàn)人員或量測(cè)設(shè)備變更; 若連

61、續(xù)9點(diǎn)出現(xiàn)在下側(cè)或連續(xù)6個(gè)點(diǎn)下降 I. 制程條件造成較小的數(shù)據(jù)變異, 須予調(diào)查與分析, 經(jīng)確認(rèn)無 特殊原因引起的應(yīng)推廣; II. 量測(cè)系統(tǒng)的變更, 可能掩飾真實(shí)的改變.,Prepared byRobin Mu,Page 93,連續(xù) 14 點(diǎn)中相鄰點(diǎn)上下交替,E.1.3 明顯的非隨機(jī)現(xiàn)象(即超過或少於2/3的點(diǎn)集中在中間 的1/3區(qū)域內(nèi)) 連續(xù)14點(diǎn)中相鄰點(diǎn)上下

62、交替 I. 計(jì)算錯(cuò)誤或描點(diǎn)錯(cuò)誤; II. 數(shù)據(jù)分層不夠, 即由兩臺(tái)加工設(shè)備或由兩位操作人員 輪流進(jìn)行操作而引起的系統(tǒng)效應(yīng); III.量測(cè)系統(tǒng)的變更, 可能由兩臺(tái)量測(cè)儀器或由兩位量測(cè) 人員輪流量測(cè)而引起的.,Prepared byRobin Mu,Page 94,E.1.4 發(fā)掘並矯正特殊原因 對(duì)極差管制圖上顯示的特殊

63、原因, 相關(guān)單位應(yīng)進(jìn)行分析, 及時(shí)採取應(yīng)對(duì)對(duì)策, 並給予橫向展開, 防止類似問題再發(fā).E.1.5 再計(jì)算管制界限 當(dāng)進(jìn)行初始制程解析或重估制程能力時(shí), 管制界限應(yīng)重新 計(jì)算, 以剔除制程在不穩(wěn)定期間已發(fā)掘及矯正的特殊原因, 對(duì)管制界限估算的影響. 依E1.1~E1.4再次確認(rèn)R管制圖的 點(diǎn)是否在管制狀態(tài)下, 必要時(shí)應(yīng)重新確認(rèn)、矯正及再計(jì)算. 注: 因特殊原

64、因而剔除的數(shù)據(jù), 其主要目的是盡量在制程 隻有共同原因存在時(shí)估計(jì)制程變異.,Prepared byRobin Mu,Page 95,E.2 解析Xbar管制圖 當(dāng)R管制圖處於管制狀態(tài)下, 組內(nèi)變異可認(rèn)為是穩(wěn)定後,方可 解析Xbar管制圖. 如各組平均值在管制狀態(tài), 可表示制程隻有 普通原因引起的變異; 否則, 表示有特殊原因變異而引起制程 中心不穩(wěn)定. E.2.1

65、有點(diǎn)超過管制上下限, 參照E.1之解析R管制圖; E.2.2 有連續(xù)的點(diǎn)出現(xiàn), 參照E.1之解析R管制圖; E.2.3 明顯的非隨機(jī)現(xiàn)象 連續(xù)14點(diǎn)中相鄰點(diǎn)上下交替, 參照E.1之解析R管制圖;,Prepared byRobin Mu,Page 96,連續(xù)3點(diǎn)中有2點(diǎn)在同一側(cè)的2/3區(qū)域以外; 連續(xù)5點(diǎn)中有4點(diǎn)在同一側(cè)的1/3區(qū)域以外; I. 管制界限錯(cuò)誤或描

66、點(diǎn)錯(cuò)誤; II. 制程或抽樣方法因連續(xù)的組包含不同變異來源的數(shù)據(jù), 如進(jìn)料混批.,連續(xù)5點(diǎn)中有4點(diǎn)落在中間1/3區(qū)域外.,連續(xù)3點(diǎn)中有2點(diǎn)落在中間的2/3區(qū)域外.,Prepared byRobin Mu,Page 97,連續(xù)15點(diǎn)在1/3區(qū)域上下 I.管制界限、計(jì)算錯(cuò)誤或描點(diǎn)錯(cuò)誤; II. 量測(cè)數(shù)據(jù)可能經(jīng)過編輯 (極差與均值相差甚遠(yuǎn)的幾個(gè)樣本數(shù)據(jù)被

67、 更改或剔除); III.量測(cè)系統(tǒng)可能沒有足夠的分辨率. 當(dāng)上述三種可能被排除且制程能力足夠, 應(yīng)對(duì)該制程加以推廣. 連續(xù)8點(diǎn)在兩側(cè), 但無一在1/3區(qū)域內(nèi) I. 管制界限、計(jì)算錯(cuò)誤或描點(diǎn)錯(cuò)誤; II. 制程或抽樣方法有分層, 即每組數(shù)據(jù)系統(tǒng)性地包含不同的制程平均, 如多線或多機(jī)臺(tái)生產(chǎn)各取一組樣本;

68、 III.量測(cè)系統(tǒng)的變更, 可能由多臺(tái)量測(cè)儀器或由多位量測(cè)人員量測(cè)引起.,連續(xù)15點(diǎn)在1/3區(qū)域內(nèi)中心線上下.,連續(xù)8點(diǎn)在中心線兩側(cè),但無一點(diǎn)在1/3區(qū)域內(nèi).,Prepared byRobin Mu,Page 98,E.3.1 如制程分布範(fàn)圍在規(guī)格界限內(nèi), 且中心在規(guī)格中心附近, 可認(rèn)為制程能力能滿足規(guī)格要求,可以延長(zhǎng)做為管制用 管制圖.,E.3 與規(guī)格比較,規(guī)格上限,管制上限,