基于多波長迭代算法的極紫外光刻掩模檢測關(guān)鍵技術(shù)研究.pdf

1、極紫外(EUV)（λ=13.5nm）光刻技術(shù)是世界范圍內(nèi)最被看好的實現(xiàn)22nm最小刻線的下一代光刻技術(shù)。其光刻掩膜版在制作過程中參入納米量級的灰塵污染、雜質(zhì)顆粒，引入的鼓包、凹坑出現(xiàn)在基底表面或埋藏在多層膜內(nèi)部或掩模表面，都會造成光刻樣品出現(xiàn)嚴(yán)重的缺陷。光學(xué)非干涉相位恢復(fù)檢測法完全基于光強信息測量，系統(tǒng)光路結(jié)構(gòu)簡單，降低儀器分辨率要求而不丟失相關(guān)信息，是實現(xiàn)極紫外掩膜缺陷檢測的重要途徑。
　　本文在現(xiàn)有非干涉相位恢復(fù)理論的基礎(chǔ)上，

2、針對缺陷相位信息的恢復(fù)，展開基于迭代算法缺陷檢測方法研究。在傳統(tǒng)多波長迭代算法的基礎(chǔ)上，引入角譜傳輸理論和梯度加速函數(shù)，提出一種快速收斂的相位恢復(fù)迭代算法——多波長梯度加速迭代算法，并采用matlab編寫了算法程序。
　　基于所提多波長梯度加速迭代算法進行仿真模擬，分別對相位分布在[-0.84，0]的高斯型相位面以及[-π，0]的“l(fā)ena”相位面進行恢復(fù)，表征復(fù)原精度的相對均方根值均達到10-3數(shù)量級，驗證了該方法的可行性。并與

3、傳統(tǒng)多波長迭代恢復(fù)算法進行對比驗證，該加速算法相較于傳統(tǒng)算法在收斂速度上提高了2倍以上且具有更高的復(fù)原精度。最后對算法中波長數(shù)目、波段范圍、傳輸距離、恢復(fù)相位區(qū)間參數(shù)對算法性能影響進行討論。搭建了多波長梯度加速迭代算法實驗裝置，采用帶通濾光片與白光光源形成七種不同波長入射光。對入射光輸入面波前相位面信息進行恢復(fù)，并將輸出面光強信息的算法計算值與測量值進行比較得到振幅誤差E=0.078％，說明該算法的正確性;分別對分辨率板一定寬度的三條對