極紫外光刻反射鏡瞬態(tài)熱和結(jié)構(gòu)變形分析.pdf

1、極紫外光刻(EUVL)與傳統(tǒng)光刻技術(shù)相比具有潛在的高分辨率優(yōu)勢，是光刻進入45nm乃至32nm節(jié)點的主要候選技術(shù)。目前開發(fā)滿足產(chǎn)業(yè)化需求的EUVL設(shè)備還存在諸多困難，其中影響光刻性能的反射鏡溫度變化和由此帶來的熱變形是重點考慮的問題之一。 報告圍繞EUVL，六面光學(xué)反射鏡熱、結(jié)構(gòu)變形的問題，利用有限元仿真方法深入研究了反射鏡在滿足產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)條件下，吸收EUV能量后瞬態(tài)溫度變化以及由此帶來的熱變形影響。研究結(jié)果如下： 第一

2、：隨著吸收EUV能量的時間增加，反射鏡溫度都升高并逐漸達到動態(tài)平衡狀態(tài)。同時反射鏡本身結(jié)構(gòu)設(shè)計也影響溫度變化和達到平衡態(tài)的時間。所有反射鏡在clear aperture區(qū)域升溫最高。M3反射鏡達到溫度平衡狀態(tài)需要時間最長，耗時7.59h。M5反射鏡表面升溫最高，達到8.48℃；在溫度震蕩平衡態(tài)下振幅最大，達到1.52℃；在clear aperture區(qū)域內(nèi)部特定時刻不同位置溫度差別最大，達到1.39℃。 第二：每一面反射鏡隨著溫

3、度升高，本身的熱變形都增大。最大結(jié)構(gòu)變形多發(fā)生在反射鏡的上表面邊緣部分。在clear aperture區(qū)域，M5反射鏡變形最大，3D變形達到了2.40rim(RMS)，2D變形達到了2.12nm(RMS)；M1反射鏡變形最小，3D變形最大僅有0.11nm(RMS)，2D變形最大僅有0.09nm(RMS)。 每一面反射鏡clear aperture區(qū)域非球面變形也都隨著溫度升高而逐漸增大。M5反射鏡最大非球面變形達到0.63nmq