

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、熱導(dǎo)率是表征物質(zhì)導(dǎo)熱能力的參數(shù)。體材料的熱導(dǎo)率與其幾何參數(shù)無關(guān),是材料本身屬性的。不過隨著微細加工工藝的迅速發(fā)展,MEMS器件的集成度越來越高,器件尺寸也越來越小。在微細尺度下,薄膜材料的熱導(dǎo)率會因為加工工藝的差異發(fā)生很大的變化,且無法直接利用經(jīng)典傳熱理論進行解釋和分析。另外,隨著 MEMS器件的特征尺寸的微型化,器件內(nèi)部的散熱問題成為了制約器件性能和壽命的關(guān)鍵因素。因此,研究微細尺度薄膜熱導(dǎo)率有著重大的意義。
本論文主要研究
2、了在微尺度熱傳導(dǎo)效應(yīng)下,氮化硅薄膜熱導(dǎo)率的測試方法。設(shè)計了一種新的測試氮化硅薄膜熱導(dǎo)率的方法。該方法采用一維雙端支撐懸臂梁結(jié)構(gòu),懸臂梁由底層的待測氮化硅薄膜以及上層的加熱兼測溫電阻組成。使用一維熱傳導(dǎo)方程推導(dǎo)出在施加直流電流的情況下懸臂梁的溫升分布ΔT以及兩端的電壓降增量ΔU。采用ANSYS有限元仿真軟件仿真了不同參數(shù)時的ΔT及ΔU,仿真結(jié)果與溫升表達式計算結(jié)果吻合得很好,驗證了測試結(jié)構(gòu)的可靠性與準(zhǔn)確性。
采用 L-edit軟
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- PECVD氮化硅薄膜制備工藝及性能測試研究.pdf
- 氮化硅薄膜的螺旋波PECVD及其光學(xué)特性研究.pdf
- PECVD氮化硅薄膜制備與微結(jié)構(gòu)研究.pdf
- PECVD氮化硅薄膜的制備工藝及仿真研究.pdf
- 基于PECVD技術(shù)的氮化硅薄膜應(yīng)力優(yōu)化研究.pdf
- PECVD氮化硅薄膜性能研究及熱學(xué)測試結(jié)構(gòu)設(shè)計.pdf
- PECVD沉積的氮化硅薄膜熱處理性質(zhì)研究.pdf
- 磁控濺射制備氮化硅薄膜特性研究.pdf
- PECVD法制備包埋硅量子點的氮化硅薄膜及其發(fā)光特性研究.pdf
- 摻磷氮化硅薄膜鈍化特性的研究.pdf
- 氮化硅薄膜制備及其相關(guān)特性研究.pdf
- PECVD工藝參數(shù)及退火對氮化硅薄膜性能的影響.pdf
- 納米硅-氮化硅薄膜微結(jié)構(gòu)特性研究.pdf
- 氮化硅透明光學(xué)薄膜的制備與特性分析.pdf
- PECVD制備多層氮化硅減反膜的工藝研究.pdf
- 富硅氮化硅薄膜的光電性能研究.pdf
- 氮化硅粉體特性對氮化硅陶瓷基板制備工藝及其性能的影響.pdf
- 脈沖激光沉積氮化硅薄膜的工藝研究.pdf
- 氮化硅透明光學(xué)薄膜的制備和特性分析
- 合成氮化硅與氮化硅鐵的熱力學(xué)分析與實驗研究
評論
0/150
提交評論