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文檔簡介
1、為了克服直流濺射中的靶面拉弧問題,近年來提出了新型的用于等離子體噴濺的脈沖電源,即交流濺射電源。從理論上分析了主電路適合等離子體濺射的原理,使用了移相控制方式,有效地提高了功率開關(guān)的頻率,從而大大減小了電源的體積,使得安裝運(yùn)輸方便化,優(yōu)化了電源設(shè)計。
采用串聯(lián)雙H橋逆變的方法,達(dá)到了提高電源輸出電壓的效果。同時,電源裝置中使用雙靶轉(zhuǎn)換技術(shù),使得各個金屬靶之間可以自由轉(zhuǎn)換,且轉(zhuǎn)換安全可靠的特點。
以往鍍膜中的電
2、源都被設(shè)計為輸出恒定電流的電源,通過恒定的電流控制濺射方式,這次則研究了恒壓電源在鍍膜技術(shù)中的應(yīng)用,并且經(jīng)過實際的試驗證明了恒壓中頻電源穩(wěn)定應(yīng)用在鍍膜技術(shù)中。
論文的主要內(nèi)容是按以下順序依次介紹的:
介紹主電路,主要介紹了主電路中的兩次逆變,其中逆變電路采用最新的逆變思想(逆變電路串聯(lián)——雙H橋)和開關(guān)器件——雙絕緣柵型雙極晶體管IGBT。并詳細(xì)闡述了高頻變壓器的設(shè)計與制作方式。
論述控制電路,
3、由于提高逆變電源的頻率是減小逆變電源體積、消除噪聲的關(guān)鍵性問題,先介紹了制約逆變器電源高頻化的主要因素——電力開關(guān)器件的工作狀態(tài),闡述了軟開關(guān)技術(shù)的起因和分類,詳細(xì)地介紹了軟開關(guān)技術(shù)的發(fā)展歷程和在各個階段的典型代表電路拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),指出了他們的優(yōu)缺點。在分析了限制逆變電源高頻化因素的基礎(chǔ)上,綜合了軟開關(guān)技術(shù)的最新研究成果,并分析設(shè)計了移相式PWM軟開關(guān)控制技術(shù)及電路的控制策略。
設(shè)計保護(hù)電路,有過電流保護(hù)電路,過電壓保護(hù)電路,
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